LSQ-01單工位高真空封管機(jī)系統(tǒng)主要用于樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統(tǒng)由真空封管機(jī)、氫氧焰機(jī)、真空系統(tǒng)、石英管機(jī)管接頭組成，標(biāo)準(zhǔn)化定制石英...

二維材料制備設(shè)備爐體小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護(hù)。其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明...

簡要介紹區(qū)域熔融純化設(shè)備襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。測溫采用性能穩(wěn)...

PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在...

高溫高壓合成爐設(shè)備是根據(jù)SHS技術(shù)發(fā)展的新動(dòng)向而研制的，采用了許多較新的科技成果，集許多功能于一身，設(shè)計(jì)使用性能優(yōu)良，具有很好的應(yīng)用前景和使用價(jià)值。

CVD石墨烯制備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預(yù)熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一...

1600系列高溫管式爐LFT1600C 300D60高溫真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。優(yōu)質(zhì)硅鉬...

1700系列單溫區(qū)真空提拉爐設(shè)備為真空或者氣氛保護(hù)條件下的晶體生長設(shè)備，樣品處理位于剛玉管內(nèi)，剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉(zhuǎn)接頭與電機(jī)...

金屬管回轉(zhuǎn)爐LFT1200C800D200IIR設(shè)備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長。該旋轉(zhuǎn)管式爐，具備在持續(xù)通入氣體的條件下，爐...

滑軌爐如圖所示,由開啟式真空管式爐根據(jù)特殊工藝要求而設(shè)計(jì)的，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。

區(qū)融爐 LFT1200C 30D50 QR設(shè)計(jì)為有機(jī)材料或無機(jī)材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度60mm，伺服電機(jī)經(jīng)過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進(jìn)，行進(jìn)速度...

煅燒爐LFT1200C Ф40如圖所示，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優(yōu)質(zhì)硅碳棒。

四溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐LFT1200C1600D100IV-R設(shè)備主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長，該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐...

單溫區(qū)立式滑軌爐設(shè)計(jì)為立式結(jié)構(gòu)，爐體可電動(dòng)滑動(dòng)。預(yù)升溫的管式爐可快速移動(dòng)到樣品區(qū)，實(shí)現(xiàn)樣品快速升溫反應(yīng)。也可程序控制升溫，實(shí)驗(yàn)擴(kuò)張性好。反應(yīng)氣體自上而下，爐管下...

大口徑封管機(jī)LQS01 D56/58設(shè)備主要用于實(shí)現(xiàn)樣品的無氧無水真空密封保存，整套系統(tǒng)由封管機(jī)、氫氧焰機(jī)及真空系統(tǒng)（客戶自備）等組成。該設(shè)備在真空條件下將石英...

單工位封管機(jī),工位立式真空封管機(jī)主要特點(diǎn)：1、石英管與內(nèi)置石英柱高溫熔接，標(biāo)準(zhǔn)化處理，重復(fù)性好。 2、石英管配合動(dòng)密封系統(tǒng)自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，操作簡單，受熱均勻。3、真空...

1200系列八溫區(qū)真空管式爐LFT1200C2400D200VIII設(shè)備主要適用于中小批量材料在高溫條件下熱處理，集控制系統(tǒng)與爐膛為一體，保溫材料使用高純氧化鋁...

臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設(shè)備設(shè)計(jì)為高通量實(shí)驗(yàn)使用，設(shè)備有8套獨(dú)立的溫控系統(tǒng)溝通，8根獨(dú)立的石英管可同時(shí)參試8組不同實(shí)驗(yàn)，...

此井式坩堝爐設(shè)備是集控制系統(tǒng)與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發(fā)熱溫度可達(dá)1200℃。采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，配有風(fēng)冷系統(tǒng)...

該設(shè)備為1400系列雙溫區(qū)立式管式爐，可兩段獨(dú)立控溫。根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求可得到兩段不同的溫場，也可得到超長恒溫區(qū)。