頻繁且經(jīng)濟(jì)有效的光譜表征對(duì)于開(kāi)發(fā)具有競(jìng)爭(zhēng)力的光學(xué)薄膜涂層非常 重要。*自動(dòng)化且無(wú)人值守的光譜測(cè)量有助于降低每次分析的成 本、提高分析效率，還有助于擴(kuò)展質(zhì)保程序。在生產(chǎn)過(guò)程中，滿負(fù)荷 運(yùn)轉(zhuǎn)的沉積室中常會(huì)涂覆大面積、通常呈圓形的襯底晶片。的光 學(xué)表征工具必須能夠在晶片被切割之前從用戶的晶片表面的特征 點(diǎn)獲得準(zhǔn)確且有意義的信息。

專為 Cary 7000 型安捷倫分光光度計(jì) (UMS) 和型 測(cè)量附件包 (UMA) 設(shè)計(jì)的安捷倫固體自動(dòng)進(jìn)樣器可 容納直徑達(dá) 200 mm (8") 的樣品，并提供 UV-Vis 和 NIR 光譜范圍內(nèi)的角度反射率和透射率數(shù)據(jù)。

此前的研究已經(jīng)證明，將 Cary 7000 UMS 與自動(dòng) 進(jìn)樣器相結(jié)合，能夠?qū)?32x 樣品支架上的多個(gè)樣品 進(jìn)行自動(dòng)化、無(wú)人值守的分析 [1]，并對(duì)氧化鋅錫 (ZTO) 涂層的線性能帶隙梯度進(jìn)行空間測(cè)繪 [2]。本 研究使用配備自動(dòng)進(jìn)樣器的 Cary 7000 UMS 對(duì)直 徑 200 mm 晶片上的涂層均勻性進(jìn)行了自動(dòng)化的角 度分辨測(cè)繪。

Cary 7000 UMS UV-Vis/NIR 分光光度計(jì)（圖 1）專 為 250 nm 至 2500 nm 波長(zhǎng)范圍內(nèi)的多角度光度 光譜 (MPS) 測(cè)量而設(shè)計(jì)。在 MPS 應(yīng)用中，我們需 要測(cè)量樣品在較寬入射角范圍內(nèi)（從接近垂直到 傾斜入射角）的反射率和/或透射率 [3]。近 有研究證明，MPS 數(shù)據(jù)對(duì)于復(fù)雜薄膜的逆向工程 [4]、深入了解電介質(zhì)薄膜中總損耗的振蕩 [5]，以 及改進(jìn)涂層生產(chǎn)步驟中應(yīng)用的逆向工程策略 [6] 很 有幫助。