采用四硼酸鋰和硝酸鋰作為熔劑熔融制備樣品 ,同時(shí)加入 Nb 和 Ta 兩種元素 ,分別作為 Zr 和 Hf 的內(nèi)標(biāo) ,通過(guò)討論各種譜線重疊干擾校正效果 ,分析比較各種內(nèi)標(biāo)校正方式 ,選擇了二次干擾曲線法并依據(jù)一定順序校正譜線重疊干擾和加內(nèi)標(biāo)元素校正基體效應(yīng) ,建立了測(cè)定氧化鋯試劑及其礦物中含量范圍較寬的氧化鋯和氧化鉿的 X 射線熒光光譜分析方法
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