產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
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等離子體加工期間的電弧放電可造成靶和腔室損壞,因而導(dǎo)致基材受損并形成顆粒。隨著特征尺寸的下降,微電子設(shè)備越來越容易出現(xiàn)電弧引發(fā)的損壞。電弧放電可出現(xiàn)在任何等離子輔助過程中,例如電離物理氣相沉積 (iPVD)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 和蝕刻。
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更新時(shí)間:2019-05-15 09:35:00瀏覽次數(shù):261
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公司經(jīng)營(yíng)品牌:GE druck, GE Panametrics,GE Bently,Wika,HBM,Tektronix,BEAMEX,SIKA,E+E,美國華瑞RAE,梅思安MSA,德爾格Draeger,德國IKA,美國奧豪斯,美國哈希hach,安捷倫等品牌,派克Parker,阿托Atos,力士樂Rexroth,哈威Hawe,德國KK,英國Time Electronics,美國斯坦福,英國密其,德國LR-Cal,德國Schleich,澳大利TPS,德國卡爾德意志等進(jìn)口品牌