首先，提出了柔性薄膜送膠與涂層工藝相結合，常規(guī)膠層厚度1微米-10微米，理論上，膠厚可控制到亞微米。薄膜送膠的特點是每層打印的圖形獨立曝光，層與層間的曝光互不影響，根本上消除了傳統(tǒng)光固化3D打印累積曝光對結構展寬的影響，實現了高深寬比、密集微結構的高保真3D打印。

　　第二，提出了將縮微投影光學系統(tǒng)、大數據設計處理與3D分層曝光技術相結合，常規(guī)圖形分辨率0.5微米-2微米，理論上，可做達0.2微米。采用空間光調制、大數據壓縮與掃描拼接曝光技術，攻克了高分辨率圖形大面積打印的難題，從而，實現了3D打印的高精度與大面積的協(xié)同。

　　第三，提出了多噴頭供膠模式，控制打印涂層厚度及組合，在逐層打印時，提供不同特性、不同成分的打印材料，降低了對材料特性的依賴，實現多全新功能材料3D打印，材料消耗和價格大幅下降。
        德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學。