日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機(jī)

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機(jī)UVE-251S
使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器，可以通過準(zhǔn)直透鏡用紫外線均勻照射工作表面。我們有各種各樣的輻照直徑單位。我們也可應(yīng)要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光，例如半導(dǎo)體晶片和晶體振蕩器，掩模對準(zhǔn)器的光源，各種光學(xué)器件和曝光實驗設(shè)備。

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機(jī)UVE-251S

 

特征       *的光學(xué)設(shè)計，實現(xiàn)了高功率和緊湊性。 高穩(wěn)定性，長壽命，使用無臭氧燈。 可以根據(jù)應(yīng)用選擇照射波長范圍。 自動化線路的豐富遠(yuǎn)程功能。 完善的防噪音措施。 照射頭可以90°的增量進(jìn)行更改。 照射角度可根據(jù)目的和用途而改變。 配備了燈泡弧光監(jiān)視器，更換燈泡時 可以輕松調(diào)節(jié)光軸。

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用       ●UV粘合應(yīng)用  用于CD和DVD驅(qū)動器的光學(xué)拾取透鏡和電子產(chǎn)品的 　　  粘合 　　，例如液晶玻璃的粘合和密封 ●光致抗蝕劑應(yīng)用 　　  各種微器件（晶體管，晶體換能器，引線框架 　　  等）：硅片的曝光光源，各種光學(xué)實驗

 

使用從250W到2000W的超高壓汞燈的高性能積分器，可以通過準(zhǔn)直透鏡用紫外線均勻照射工作表面。我們有各種各樣的輻照直徑單位。我們也可應(yīng)要求提供各種過濾器。它被廣泛用于電子零件的曝光，例如半導(dǎo)體晶片和晶體振蕩器，掩模對準(zhǔn)器的光源，各種光學(xué)器件和曝光實驗設(shè)備。

*對于大輸出（2 kW或更大）和大面積（300mmΦ或更大），通過結(jié)合高性能積分鏡和高精度準(zhǔn)直鏡可以再現(xiàn)均勻的輻射。請聯(lián)xi我們。

 

日本san-eielectric桌上型紫外線曝光機(jī)UVE-251S

 

關(guān)于紫外線強(qiáng)度

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測量儀器采用UVP-365JW　   　測量波長365nm       單位mW /cm²

			光源單元
			UVE-251S	UVE-502S	UVE-1001S	UVE-2001S
		照射距離	紫外線強(qiáng)度	紫外線強(qiáng)度	紫外線強(qiáng)度	紫外線強(qiáng)度
	EL-100 * 1	200	二十五	60	110	180
	EL-125	200	15	40	70	110
	EL-160	300	十	二十五	40	70
	EL-200	350	8	20	30	50
	EL-220	350	6	15	二十五	40
	EL-240	350	---	十	18歲	35
	EL-270	350	---	8	15	二十五

* 1.表示每個照射單元的有效照射直徑。