半導體純水系統(tǒng)

半導體純水系統(tǒng)

半導體純水系統(tǒng)是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內(nèi)，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據(jù)不同行業(yè)的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。

電子半導體行業(yè)純水設備制備超水的工藝大致分成以下幾種：

  1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

  2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

  3、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨椋涸?rarr;沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點     

   目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來?，F(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面： 

   1、種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。

   2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。

   3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水***經(jīng)濟，***環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。     
　設備優(yōu)點
　1、出水水質具有好的穩(wěn)定度。

　　2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水。

　　3、模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)PLC全自動控制。

　　4、不需酸堿再生，無污水排放。