納米壓印技術咨詢 參考價：面議
天仁微納技術團隊具有20多年的納米壓印及配套的半導體加工經驗，可以為客戶提供各種納米壓印技術咨詢服務。
納米壓印工藝開發(fā) 參考價：面議
天仁微納可以根據(jù)客戶的產品需求，提供納米壓印工藝開發(fā)服務。配套天仁微納的設備及材料，為客戶提供全套解決方案。
GL-ASL納米壓印材料/納米壓印抗粘處理 參考價：面議
天仁微納自主研發(fā)、生產及銷售GL-ASL納米壓印抗粘處理，用來減少子模具復制材料和原始模具的粘度，有利于脫模，增加對原始模具的保護。
納米壓印膠 參考價：面議
針對納米壓印膠需求，天仁微納可以為客戶推薦、對接國內外多種壓印膠廠商，并提供工藝咨詢服務。
標準壓印模具 參考價：面議
標準壓印模具天仁微納還提供一些帶有納米孔、納米柱、納米線條等標準結構的標準模具。如有需求，請聯(lián)系我們咨詢。
UniCoater桌面型旋涂勻膠設備 參考價：面議
UniCoater桌面型旋涂勻膠設備是一種桌面型旋涂勻膠設備?？尚?英寸或者6英寸方片。
GL Plasma等離子體清洗設備 參考價：面議
? GL Plasma等離子體清洗設備數(shù)適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材（軟工作模具基材）。
150mm&300mm 全自動納米壓印光刻預處理設備 參考價：面議
GL150 PreNIL & GL300 PreNIL，150mm&300mm 全自動納米壓印光刻預處理設備，Cassette to cassette機械手自動...
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備 參考價：面議
GL SR300 300mm步進式納米壓印光刻/拼版設備是一種步進式紫外納米壓印設備，可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結構，還可以用于將小面...
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL4 R D研發(fā)型納米壓印光刻設備是一種專門為大學、科研院所和企業(yè)產品研發(fā)所設計，功能強大的多功能研發(fā)型納米壓印光刻設備。通過簡單的夾具更換，可以實現(xiàn)旋涂壓印...
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設備是一種專門為晶圓級光學加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設備，可在200...
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備 參考價：面議
GL8 CLIV Gen2高精度紫外納米壓印光刻設備是天仁微納新型全幅高精度紫外納米壓印設備，標配天仁微納CLIV（Contact Litho in Vacuu...
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