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貨物所在地：浙江杭州市
所在地： 杭州
更新時(shí)間：2024-12-17 08:50:36
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低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋技術(shù)參數(shù)：
型號 | 溫度范圍（℃） | 溫度波動度(℃) | 工作槽容積(mm3) | 工作槽開口(mm2) | 槽深度（mm） | 循環(huán)泵流量(L/min) | 排水 |
CHDCW-0506 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-0510 | -5~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1006 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-1008 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-1010 | -10~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-1015 | -10~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 220 | 6 | 有 |
CHDCW-2006 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×150 | 180×160 | 150 | 6 | 有 |
CHDCW-2008 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×140 | 235×180 | 140 | 6 | 有 |
CHDCW-2010 | -20~100 | 0.02～0.05 | 250×200×200 | 180×160 | 200 | 6 | 有 |
CHDCW-2015 | -20~100 | 0.02～0.05 | 280×250×220 | 235×180 | 200 | 6 | 有 |
低溫恒溫槽CHDCW-0510磁力攪拌制冷水浴鍋
低溫恒溫循環(huán)器的應(yīng)用領(lǐng)域：
1.材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
2.物化領(lǐng)域：激光器、磁場、各種分子泵、擴(kuò)散泵、離子泵以及包括材料領(lǐng)域。使用的各種需水冷設(shè)備。
3. 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器（合成器）等。
4. 對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
5.醫(yī)療領(lǐng)域：超導(dǎo)磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機(jī)、降溫毯等。
6.對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
主要用途：
1、對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、光化學(xué)反應(yīng)儀光源部分進(jìn)行低溫冷卻。
2、對雙層玻璃反應(yīng)釜夾層進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
3、對分光光度計(jì)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
4、對超聲波破碎的試料進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
5、對激光加工機(jī)的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
6、對蝕刻裝置的電機(jī)部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
7、對電子顯微鏡的電源、光源部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
8、對工業(yè)用機(jī)械裝置的發(fā)熱部分進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
9、對電泳儀、粘度計(jì)、醫(yī)用冷帽、降溫毯進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
10、對電鏡、分子泵、離子泵、擴(kuò)散泵進(jìn)行低溫冷卻和溫度控制。
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