薄膜技術(shù)在半導(dǎo)體、太陽(yáng)能電池、平板顯示器和光學(xué)鍍膜等領(lǐng)域有著非常廣泛的應(yīng)用，而膜厚測(cè)量是對(duì)薄膜表面微觀形貌測(cè)試的一個(gè)重要環(huán)節(jié)。隨著精密測(cè)試技術(shù)的發(fā)展日新月異，對(duì)膜層厚度以及表面質(zhì)量的測(cè)量精度要求越來越高，傳統(tǒng)機(jī)械、電磁等測(cè)量手段已經(jīng)跟不上時(shí)代的發(fā)展，未來，光電技術(shù)將以其非接觸、無損、高效等優(yōu)勢(shì)持續(xù)膜厚測(cè)量領(lǐng)域，利用光電設(shè)備與智能算法精準(zhǔn)測(cè)量薄膜厚度與表面質(zhì)量，助力工藝優(yōu)化與產(chǎn)品升級(jí)，推動(dòng)工業(yè)創(chuàng)新與發(fā)展。

1.原理介紹

本文介紹了一種采用反射式光譜系統(tǒng)進(jìn)行膜厚測(cè)量的方法，該系統(tǒng)利用了干涉光譜的原理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，靈敏度高，適合反射光較弱、透明或半透明薄膜表面的測(cè)量。

如上圖所示，通過將光源發(fā)出的光經(jīng)光纖探頭射向被測(cè)薄膜，光從空氣進(jìn)入膜層，相當(dāng)于光疏進(jìn)入光密介質(zhì)，在膜層的上下表面產(chǎn)生兩個(gè)反射光束，在空氣與膜層界面處發(fā)生一次反射，形成一束反射光，而折射進(jìn)入膜層的光在膜層底部與載體界面處又發(fā)生反射，反射光透過膜層與空氣界面射入空氣，形成第二束反射光，兩束反射光再由接收光纖傳輸，最終被光譜儀采集，由于兩束反射光具有一定的光程差，會(huì)形成類似于干涉條紋的光譜，通過入射角度、折射率n以及波峰波谷光譜數(shù)據(jù)利用極值法計(jì)算出薄膜的厚度d。厚度越大光譜數(shù)據(jù)越密，波長(zhǎng)越長(zhǎng)光譜數(shù)據(jù)越稀疏，需要根據(jù)情況選擇合適的波長(zhǎng)范圍及光譜分辨率。

2.系統(tǒng)特點(diǎn)

反射式光譜系統(tǒng)不僅可以測(cè)量薄膜厚度，還可以測(cè)量膜層厚度均勻分布情況，與其他方法相比，這種方式測(cè)量如下優(yōu)勢(shì)：

?                      數(shù)據(jù)處理高效便捷：干涉光譜技術(shù)不需要檢測(cè)干涉條紋，可以測(cè)量任意位置，能夠即時(shí)分析并呈現(xiàn)高精度的膜厚數(shù)據(jù)。

?                      非接觸式測(cè)量，無損檢測(cè)：避免了傳統(tǒng)接觸式測(cè)量可能帶來的樣品表面劃痕或污染風(fēng)險(xiǎn)，尤其適用于對(duì)表面質(zhì)量要求較高的精密元件和材料。

?                      光纖探頭設(shè)計(jì)精巧，適應(yīng)性強(qiáng)：配備的光纖探頭設(shè)計(jì)精巧，體積小巧且高度靈活，能夠輕松穿越狹窄空間，深入設(shè)備內(nèi)部進(jìn)行精確測(cè)量。

?                      測(cè)厚范圍寬且精度高：干涉光譜測(cè)膜厚技術(shù)具有寬廣的測(cè)量范圍，能夠覆蓋從納米級(jí)到微米級(jí)甚至更大范圍的薄膜厚度，滿足了不同應(yīng)用場(chǎng)景下的多樣化需求。同時(shí)，其測(cè)量精度高，能夠捕捉到微小的厚度變化。

?                      高重復(fù)性與穩(wěn)定性：干涉光譜測(cè)膜厚技術(shù)具備出色的重復(fù)性和穩(wěn)定性，即使在長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)測(cè)量或惡劣環(huán)境條件下，也能保持測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和一致性。

綜上所述，干涉光譜測(cè)膜厚技術(shù)以其高效的數(shù)據(jù)處理能力、非接觸式無損檢測(cè)、精巧的探頭設(shè)計(jì)、寬廣的測(cè)量范圍與高精度以及高重復(fù)性與穩(wěn)定性等優(yōu)勢(shì)，在科研和工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用潛力和價(jià)值。該技術(shù)易于與自動(dòng)化設(shè)備和控制系統(tǒng)集成，實(shí)現(xiàn)測(cè)量過程的自動(dòng)化和智能化。通過與其他設(shè)備的無縫對(duì)接，可以構(gòu)建高效的實(shí)時(shí)在線生產(chǎn)監(jiān)測(cè)和質(zhì)量控制體系，進(jìn)一步提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

3.應(yīng)用領(lǐng)域

?                      半導(dǎo)體行業(yè)：薄膜厚度的控制對(duì)于芯片制造至關(guān)重要，在集成電路制造中，需要精確控制氧化層、金屬層等薄膜的厚度，以保證器件的性能和穩(wěn)定性。

?                      涂料行業(yè)：膜厚測(cè)試儀可用于測(cè)量涂料的干膜厚度，適當(dāng)?shù)耐苛虾穸扔兄谔岣咄繉拥姆雷o(hù)性能、美觀度和耐久性。

?                      光學(xué)領(lǐng)域：測(cè)量光學(xué)鍍膜的厚度，如精密光學(xué)行業(yè)中的二氧化硅膜和氟化鈣膜等。光學(xué)鍍膜的厚度直接影響光學(xué)元件的性能，如反射率、透射率和色散等。

?                      新能源/光伏行業(yè)：在新能源和光伏行業(yè)中，膜厚測(cè)量用于測(cè)量如鈣鈦礦、ITO等薄膜的厚度，精確控制薄膜厚度對(duì)于提高光伏器件的光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性至關(guān)重要。

?                      顯示面板行業(yè)：膜厚測(cè)量儀用于測(cè)量涂布膜、微流道等薄膜的厚度，這些薄膜的厚度直接影響顯示面板的顯示效果和性能。

?                      高分子材料行業(yè)：在高分子材料行業(yè)中，膜厚測(cè)量可用于測(cè)量如PI膜等高分子材料的薄膜厚度，其厚度對(duì)性能和應(yīng)用效果有重要影響，如透氣性、阻隔性和機(jī)械強(qiáng)度等。

?                      科研與高校：膜厚測(cè)量用于研究新材料的薄膜生長(zhǎng)過程、探索新材料的性質(zhì)等。

綜上所述，膜厚測(cè)量在多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，其精確度和穩(wěn)定性對(duì)于保證產(chǎn)品質(zhì)量、提升性能和研究進(jìn)展具有重要意義。

4.產(chǎn)品推薦

北京鑒知技術(shù)有限公司微型光纖光譜儀非常適用于膜厚測(cè)量的應(yīng)用

?                      性能較好、可靠性好、性價(jià)比較高

?                      體積小巧，適合原位快速實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)

?                      軟件使用簡(jiǎn)單，易操作

?                      紫外、可見、近紅外，光譜涵蓋185~2500nm，可快速測(cè)量全譜范圍