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XULM 240費希爾X射線熒光測厚儀信息

時間:2025/7/18閱讀:39
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適配不同行業(yè)的檢測場景,XULM 240采用高度模塊化的硬件架構(gòu),其核心檢測單元搭載與高型號同源的硅漂移探測器(SDD),能量分辨率可達 125eV(針對 Mn Kα 線),能精準區(qū)分相鄰元素的特征 X 射線信號,為鍍層成分分析提供可靠數(shù)據(jù)支撐。

在測量附件方面,儀器提供全系列準直器選擇(從 φ0.1mm 到 φ5mm),其中 φ0.1mm 的微準直器可聚焦 X 射線束至發(fā)絲粗細,專門用于測量半導體芯片的金線鍍層、精密傳感器的電極鍍層等微型結(jié)構(gòu);濾波器模塊則包含 Al、Cu、Ti 等多種材質(zhì),可根據(jù)鍍層類型(如厚鍍層選高吸收濾波器,薄鍍層選低吸收濾波器)靈活切換,減少背景干擾。X 射線管支持 50kV/1mA 的功率輸出,可選配微聚焦 X 射線管(焦點尺寸≤50µm),配合特殊設(shè)計的測角儀,甚至能對直徑僅 100µm 的微型孔內(nèi)壁鍍層進行非接觸式測量,突破了傳統(tǒng)儀器對微小結(jié)構(gòu)的檢測限制。

此外,儀器還預留了擴展接口,可根據(jù)需求加裝自動進樣器、溫濕度控制模塊或氮氣保護裝置,進一步拓展在高溫高濕環(huán)境、易氧化樣品等特殊場景中的應(yīng)用能力,真正實現(xiàn) “一臺設(shè)備覆蓋全生產(chǎn)鏈檢測需求"。


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