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二級循環(huán)單元單流體控溫系統(tǒng) TCU大系統(tǒng)
高溫循環(huán)油浴系統(tǒng) TCU多臺反應釜溫度控制
反應釜TCU溫控系統(tǒng)控制系統(tǒng) 加熱循環(huán)裝置
TCU主要用于反應釜集中控溫的,般是配套使用,在使用TCU反應釜的時候,定要注意清洗,要不然會影響TCU反應釜的高效運行。
TCU反應釜機械清洗:
TCU反應釜機械清洗的時候,采用高壓清洗裝置,使用高壓水流通過噴頭沖刷,將反應釜內壁及攪拌器表面上的堅硬垢物擊碎,*剝離并清除掉。
TCU反應釜機械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓,然后通過伸入釜內的清釜機器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉變?yōu)樗鞯膭幽埽ㄟ^這個能量對壁面污垢進行沖擊實現(xiàn)清洗、清除的效果。
TCU反應釜機械清洗是單純的物理清洗,所使用的介質為水,成本非常低,但是效率非常高,高壓水清洗所用時間短,與手工清洗相比較,能節(jié)省大量人力、物力、財力,還不會對TCU反應釜造成損傷。
與原來手工清除相比,年下來能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時間,若將這部分時間用于生產,將能額外產生可觀的經濟效益。同時,高壓水不會對反應釜內壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè),高壓水射流清洗已經逐步成為清洗方法的主流。
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