反應釜高低溫循環(huán)裝置-半導體冷熱一體機 返回列表頁

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

反應釜高低溫循環(huán)裝置-半導體冷熱一體機

反應釜高低溫循環(huán)裝置-半導體冷熱一體機

　　在制藥化工行業(yè)中，有各種各樣對于微通道反應器配套的冷熱源恒溫控制設備，不同的 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備帶來溫度范圍是不一樣的，同時， 反應釜高低溫循環(huán)裝置在使用的時候也需要注意一些使用要點，避免操作失誤。

　　使用 反應釜高低溫循環(huán)裝置之前，應該添加合適的載冷劑，載冷劑種類比較多，一般有水、乙二醇、氯化鈉、氯化鈣鹽水溶液等，常用水比較普遍，需要注意的是：液體的介質(zhì)不能低于工作臺板20mm。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置應該放置在干燥通風的位置，后背及兩側(cè)離開障礙物400mm距離，需要注意不要將 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備處于潮濕陰暗的地方，長時間的濕度會影響 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備，并且造成實驗結(jié)果不準確，影響實驗數(shù)據(jù)，所以，用戶千萬不要不當回事，要注意放置在要求的地方。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置設備的型號比較多，用戶根據(jù)自己的工藝對應技術(shù)參數(shù)來確定具體的型號，建議由相關(guān)技術(shù)人員進行確定，避免型號選擇過大過小，不能安全進行運行工作。電源功率應該大于或者等于儀器總功率，電源必須要有良好的“接地”裝置（注：低溫冷卻液循環(huán)泵380v電壓儀器背后左下方螺絲上有接地引線）。

　　反應釜高低溫循環(huán)裝置在使用完畢之后，所有開關(guān)必須置于關(guān)機狀態(tài)，方可拔下電源插頭，用吸球，皮管把笑傲內(nèi)的液體吸干。

　　定期制定清理保養(yǎng)計劃，保證 反應釜高低溫循環(huán)裝置處于運行的狀態(tài)，減少企業(yè)成本，促進運行。

平時在操作反應釜高低溫循環(huán)裝置設備設備的時候，要多看多問多想，才能更好的使用 反應釜高低溫循環(huán)裝置設備。