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Heidolph 磁力攪拌器

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更新時間:2022-10-16 07:30:18瀏覽次數(shù):3159

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產(chǎn)品簡介

Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點

? 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
? 操作方面,數(shù)字顯示,帶背景燈
? 800W的加熱能力,快速加熱
? 轉(zhuǎn)速Z大可達到14,000rpm
? 強大磁力,輕松驅(qū)動攪拌子
? Z多可攪拌20L水
? 免維護的發(fā)動機,啟動順暢
? 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃
? 高效率驅(qū)動,低效率消耗
? 包裹防腐蝕材料的硅合金機身,持久耐用

詳細介紹

Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點
 
• 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤
• 操作方面,數(shù)字顯示,帶背景燈
• 800W的加熱能力,快速加熱     
• 轉(zhuǎn)速zui大可達到14,000rpm
• 強大磁力,輕松驅(qū)動攪拌子
• zui多可攪拌20L水
• 免維護的發(fā)動機,啟動順暢
• 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃
• 高效率驅(qū)動,低效率消耗
• 包裹防腐蝕材料的硅合金機身,持久耐用
 

 

 

 

 

 

 加熱攪拌MR Hei-End

加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec

 加熱攪拌MR  Hei-Standard

攪拌MR Hei-Mix D/L/S

 

 
加熱型磁力攪拌器MR Hei-End
高安全性能
• 800W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
•優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
•優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能
•預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達到預(yù)設(shè)定的溫度差時
•獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•*避免錯誤的溫度設(shè)定
 
•速度范圍: 30 - 1,400 rpm
•出眾的溫度控制精度: ±1 %
•數(shù)字顯示速度和溫度(包括設(shè)定值和實際值)
•加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C 
•介質(zhì)溫度范圍:zui高 250     
•精確溫度設(shè)定:±1K    
•當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量
•照明開關(guān)
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉

•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)  

加熱型磁力攪拌器MR Tec/Tec
適用于更高實驗要求
MR Hei-Tec
•800 W加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
•數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實際溫度
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時,獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•照明開關(guān)
•電子溫度控制
(選配 EKT Hei-Con)
•精確溫度設(shè)定:   ±1K 
(選配 EKT Hei-Con)
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
(選配 EKT Hei-Con)
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)
MR Hei-Tec
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
-          優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
MR Hei-Tec [ ]
•與 MR Hei-Tec 參數(shù)*
•正方形加熱盤
•加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成
•加熱盤尺寸 w x d (mm): 132 x 132
 
加熱型磁力攪拌器MR Standard
適用于任何實驗室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器
MR Hei-Standard
• 800 W 加熱功率 (600 W 于 115/100 V)
•加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C
•介質(zhì)溫度范圍: zui高達 250°C
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金
-          優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能
-          優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能
•加熱盤直徑: 145 mm
•通過兩個獨立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能  
•當(dāng)溫度偏離控制溫度達50°C時,獨立線路開關(guān)自動停止加熱
•電子溫度控制
(選配 EKT Hei-Con)
•精確溫度設(shè)定:   ±1K 
(選配 EKT Hei-Con)
•介質(zhì)溫度控制精度: ±1K
(選配 EKT Hei-Con)
•三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命
•電子轉(zhuǎn)速限制, 保護發(fā)動機
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•優(yōu)秀的攪拌性能,處理量zui大達 20升( H2O)
 
磁力攪拌器MR Mix D/L/S攪拌單功能
 
MR Hei-Mix D
•數(shù)字顯示,電子速度控制
•速度范圍: 100 - 1,400 rpm
•速度控制精度:±2 %
•加強型大功率攪拌磁力發(fā)動機, 驅(qū)動攪拌子輕而易舉
•加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 (V2A)
•加熱盤直徑: 145 mm
•延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤
•推薦用于細胞生物學(xué)實驗室
 
MR Hei-Mix L
•與MR Hei-Mix D參數(shù)*, 無數(shù)字顯示
 
MR Hei-Mix S
•白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤
•特別推薦用于滴定
•加熱盤直徑: 105 mm
•電子速度控制,無數(shù)字顯示
•大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm
•機身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯
•zui小的空間需要:
126 ×80×140 mm (w × h × d)

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