高剪切濕法研磨膠體磨 返回列表頁

一、粉體顆粒概述

與大塊固體相比較，相對(duì)微小的固體稱之為顆粒。根據(jù)其尺度的大小，常區(qū)分為顆粒(particle)、微米顆粒(micronparticle)、亞微米顆粒(sub-micronparticle)、超微顆粒(ultramicronparticle)、納米顆粒(nano-particle)等等。這些詞匯之間有一定的區(qū)別，目前正在建立相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行界定。通常粉體工程學(xué)研究的對(duì)象，是尺度界于10-9m到10-3m范圍的顆粒。從粉體工程學(xué)廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域來看，以微小顆粒的形式來處理固體物質(zhì)具有如下顯而易見的幾方面的必要性與有利性：

1.比表面積增大促進(jìn)溶解性和物質(zhì)活性的提高，易于反應(yīng)處理。

2.顆粒狀態(tài)易于流動(dòng)，可以精確計(jì)量控制供給與排出和成形。

3.實(shí)現(xiàn)研磨、分散、混合、均質(zhì)化與梯度化，控制材料的組成與構(gòu)造。

4.易于成分分離，有效地從天然資源或廢棄物中分離有用成分。

如上所述，可以充分理解以顆?；蝾w粒集合體形式處理物料的重要性。

粉體技術(shù)明確的一個(gè)發(fā)展方向是使顆粒更加微細(xì)化、更具有活性、更能發(fā)揮微粉*的性能。近年來關(guān)于“超微顆粒"的研究開發(fā)就是沿著這個(gè)方向，以至于60個(gè)碳原子組成C60和70個(gè)碳原子組成的C70(即fullerene：碳原子排列成球殼狀的分子)歸入超微粉體。自古以來的粉體單元操作——粉碎法(breaking-down法)、化學(xué)或物理的粉體制備法(building-up法)以及反應(yīng)工程中物質(zhì)移動(dòng)操作的析晶反應(yīng)，都被包含在粉體技術(shù)制備領(lǐng)域中。

高剪切濕法研磨膠體磨工作原理：膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

 膠體磨結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)，一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。 雖然都是三級(jí)結(jié)構(gòu)，但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同，形狀及齒列的 結(jié)構(gòu)。磨頭結(jié)構(gòu)SZX有多種的膠 體磨頭主要內(nèi)部結(jié)構(gòu)區(qū)別溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺ZRF磨頭配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道 的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度 一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下 一直在進(jìn)行研 磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。 軸的振動(dòng)偏差 0.01mm （靜止） 這與設(shè)備的設(shè)計(jì)和零件的加工精度有關(guān) 這個(gè)和高速運(yùn)轉(zhuǎn)有相當(dāng)大的影響。偏差越大，就需要磨頭的間歇越 大，那么粉碎 的效果越差。 齒列的深度 從開始的2.7mm 到末端的0.7mm 范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。最大線速 度 V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S。

 高剪切膠體磨的細(xì)化作用非常高，它對(duì)物料的適應(yīng)能力也較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒)，所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

  GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000系列膠體磨的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

　　高剪切濕法研磨膠體磨三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,最高轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000RPM以上，所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

 可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級(jí)乳化模塊，超高速模塊，ZRF膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。更換磨頭可以作為均質(zhì)機(jī)使用。膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力 較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒）， 所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使 用膠體磨進(jìn)行細(xì)化

產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　*優(yōu)良的研磨效果的高吞吐量

　　*為適應(yīng)物料顆粒大小，可無限調(diào)整定子/轉(zhuǎn)子之間的間隙設(shè)置

　　*適合于粘度高達(dá)50,000 mPas的各種粘度范圍的物料

　　*能在高達(dá)16 bar的壓力下操作

　　*所有接觸液體的部件為316L或316Ti不銹鋼

　　*高性能雙端面機(jī)械密封

　　*高標(biāo)準(zhǔn)表面處理

　　*機(jī)器可自動(dòng)排水， 具有CIP/SIP功能

　　*噪音低

　　*根據(jù)符合EHEDG(歐洲衛(wèi)生工程設(shè)計(jì)集團(tuán))準(zhǔn)則制造

　　*制藥級(jí)設(shè)計(jì)

*根據(jù)提供的ATEX 95指導(dǎo)方針執(zhí)行防爆

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通電機(jī)、變頻調(diào)速電機(jī)、防爆電機(jī)、變頻防爆電機(jī)
電源選擇：380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
設(shè)備選配：物料儲(chǔ)罐、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車,冰水機(jī)
設(shè)備表面處理：拋光
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍

以下為型號(hào)表供參考：