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抗蝕劑涂敷裝置是將抗蝕劑材料涂敷到基材等目標(biāo)物體的表面的裝置。
抗蝕劑材料是一種由對(duì)光敏感的樹脂制成的電子材料。
抗蝕劑涂布設(shè)備根據(jù)涂布方式可分為旋涂機(jī)和噴涂機(jī)。前一種類型的旋涂機(jī)通常用于抗蝕劑涂覆。旋涂機(jī)可形成厚度為1至數(shù)十微米的薄膜，適合于平坦表面的涂覆。噴涂機(jī)用于對(duì)表面不平整的三維物體進(jìn)行噴涂。
抗蝕劑涂布設(shè)備的應(yīng)用
抗蝕劑涂敷設(shè)備所涂敷的抗蝕劑材料是用于半導(dǎo)體加工的材料。因此，半導(dǎo)體制造工藝中通常會(huì)采用抗蝕劑涂覆設(shè)備。
抗蝕劑材料在激光加工等中用作光掩模。盡管可以由操作者手動(dòng)施加抗蝕劑材料，但是可能難以形成具有均勻膜厚的膜。如果有沒有涂層的地方或者厚度不夠的話，后續(xù)加工就會(huì)不成功，質(zhì)量也會(huì)出現(xiàn)偏差。
從質(zhì)量控制的角度來看，使用抗蝕劑涂敷裝置均勻地涂敷抗蝕劑材料非常重要。
抗蝕劑涂布設(shè)備原理
如上所述，抗蝕劑涂覆設(shè)備的主要類型是旋涂機(jī)和噴涂機(jī)。旋涂機(jī)和噴涂機(jī)的涂布方法不同。
1. 旋涂機(jī)
旋涂機(jī)是一種利用離心力進(jìn)行涂覆的設(shè)備。將抗蝕劑材料滴到待涂覆的物體上后，該物體高速旋轉(zhuǎn)。這種旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生離心力，使抗蝕劑材料散布到每個(gè)角落。
使用旋涂機(jī)進(jìn)行涂布時(shí)，抗蝕劑材料的擴(kuò)散可能會(huì)在表面有凹凸的部分停止，因此難以在凹凸嚴(yán)重的表面上涂布。在這種情況下，可以使用噴涂機(jī)。
2. 噴涂機(jī)
噴涂機(jī)是采用噴涂方法的設(shè)備。通過噴涂來涂敷抗蝕劑材料。根據(jù)裝置的不同，均勻涂覆的機(jī)構(gòu)有多種；有些裝置移動(dòng)噴嘴來涂覆每個(gè)部件，有些裝置在旋轉(zhuǎn)待涂覆物體的同時(shí)保持噴嘴固定。
