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光電開關是一種利用光來檢測物體有無及其表面形狀的裝置。雖然它們有時被稱為光電傳感器,但具有觸點輸出的產(chǎn)品通常被稱為光電開關。大多數(shù)使用的光是可見光區(qū)域或紅外光。其特點是檢測距離遠、檢測物質限制少。光電...
便攜式電源是一種將電力儲存在內置電池中,用于為各種電器和設備供電的電源設備。配備多個交流電源插座,可以像普通墻壁插座一樣為手機和其他家用電器供電。除了用于災難等緊急情況外,它們還用于沒有墻壁插座的地方...
SOFC是固體氧化物燃料電池的縮寫,是一種在高溫下運行的燃料電池。燃料電池是一種引起燃料和氧氣之間發(fā)生化學反應并將其直接轉化為電能的裝置。SOFC使用固體電解質來引起氫氣或一氧化碳等燃料與氧氣之間的反...
水力發(fā)電用水輪機是用于水壩等水力發(fā)電的水輪。通過安裝在瀑布、水壩等高處落下大量水的地方,或者急流等水流高速流動的地方,使水輪旋轉,將能量轉化為電能。用于水力發(fā)電的水輪機分為脈沖式水輪機和反動式水輪機,...
機構分析軟件主要預測由多個裝置組成的機械系統(tǒng)的機構和零件的運動,并計算施加在多個零件之間接觸點的應力,例如扭矩、反作用力和位移。動態(tài)計算。結構分析基本上使用有限元方法來分析單個物體,而機械分析則基于運...
汞分析是檢測環(huán)境樣品或人體樣品中汞的含量或累積量的方法。汞分析的背景如下。1956年,日本確認爆發(fā)水俁病,并發(fā)現(xiàn)工廠排放大量汞。當攝入超過可接受的量時,汞對人體有害。它通常不會在體內蓄積。為此,200...
腐蝕測試是識別腐蝕物質的環(huán)境因素并確認在故意促進腐蝕的條件下的耐腐蝕性能的測試的總稱。腐蝕是造成產(chǎn)品損壞的因素之一。腐蝕是由各種環(huán)境因素復雜組合造成的,可以說很難重現(xiàn)這種現(xiàn)象。即使可以進行模擬,也需要...
高溫高濕試驗設備是控制溫度和濕度的環(huán)境試驗設備,用于評估產(chǎn)品和材料的耐久性、質量和可靠性。該設備是各行業(yè)產(chǎn)品開發(fā)和質量控制不可少的。使用目的高溫高濕試驗設備的用途如下:產(chǎn)品耐久性測試:評估由于溫度和濕...
風洞測試是一種人工產(chǎn)生風并將風施加到按比例縮放的模型或物體以分析其行為的測試。風洞試驗主要用于摩天大樓和大型建筑的抗風設計,但對于提高汽車、飛機等運輸機械的氣動性能也很重要。該測試評估建筑物的抗風能力...
彎曲試驗是對機器人電纜、光纖電纜等材料因反復彎曲而容易劣化的產(chǎn)品,通過反復彎曲來確認其耐久性的試驗。當涉及又長又細的電纜和電線時,電纜本身的重量會使電線彎曲,或者在布線過程中彎曲。如果彎曲耐久性低,則...
冷鍛壓力機是金屬材料塑性加工方法之一。也稱為冷鍛。金屬加工主要分為三種類型:切割這是一種通過使用刀片等工具刮擦或切割來從大塊材料中去除不需要的部分的方法。鑄造法將材料加熱熔化,澆注成制品倒置形狀,然后...
臺式銑床是銑床小型化的機床,專為臺式使用而設計。與普通銑床一樣,可以使用銑刀切削材料,銑刀是連接到旋轉主軸的切削刀具。典型的銑床體積大且價格昂貴,因此通常用于商業(yè)用途,但如果您使用臺式銑床,則可以輕松...
臥推機是一種在辦公桌上使用的小型壓力機。由于在桌面上使用,因此也稱為臺式壓力機。將金屬等被加工材料放置在壓力機的模具之間,對材料施加強大的壓力,使其變形為模具的形狀并進行加工。它還用于粉末成型和填縫工...
軸承加熱器是一種用于通過熱裝將軸承內圈固定到軸上的裝置。熱壓配合是一種將軸承內圈與金屬轉軸連接的方法。這利用了金屬受熱時會膨脹的特性。通過加熱軸承并增大內圈內徑,可以將軸承內圈牢固地固定在軸上。軸承的...
涂裝設備是將化學品等涂敷到產(chǎn)品和材料上的設備。典型的涂布設備有輥涂機、旋涂機、浸涂機、噴涂機、點涂機等,根據(jù)被涂物的形狀、被涂物的種類、涂膜的目的而采用各種涂敷方法。。近年來,半導體制造、FPD(平板...
電阻焊機是一種用于焊接金屬的機器。通過將待焊接區(qū)域固定在電極之間并在向金屬通電的同時施加壓力來焊接金屬。由于利用了被焊接金屬的電阻產(chǎn)生的焦耳熱,因此根據(jù)電流的流動方式,有多種不同的類型,例如逆變器型、...
半導體清洗設備是清洗工藝中使用的設備的總稱,是半導體制造工藝之一。清洗工藝是重要工藝,占整個半導體制造工藝的30-40%。在高溫處理工序或薄膜形成工序之前,有作為前工序的清洗,除去污垢;在除去氧化物和...
步進曝光機是一種用于光刻(半導體和液晶制造工藝)的投射曝光設備。隨著IC電路圖案的小型化,制作全尺寸光掩模圖案變得困難。這是指在對大于實際尺寸的掩模圖案進行縮小投影曝光時進行分步重復曝光的曝光設備步進...
電子束光刻設備是半導體光掩模生產(chǎn)中利用電子束在光掩模毛坯(以下簡稱毛坯)上繪制電路圖形的設備。在存儲器、CPU等LSI的制造中,將分割為數(shù)十層的光掩模作為母板,使用曝光裝置將光掩模上的圖案轉印到晶圓上...
ALD(沉積)設備是利用原子層沉積形成納米級薄膜的設備。由于薄膜是按原子逐層形成的,因此具有精確的膜厚可控性和精確的階梯涂布性能。但缺點是成膜速度慢。ALD成膜中使用了許多有機金屬材料,但其中許多材料...
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