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日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 特點(diǎn)介紹
“ASTON Impact"是一款適用于氣體分析的過程氣體監(jiān)測的高靈敏度質(zhì)譜儀。
這是一款追求性價(jià)比和易用性的電子電離離子源型號(hào)。
它節(jié)省空間并允許您監(jiān)測大氣壓區(qū)域的氣體。
雖然體積小，但質(zhì)量范圍擴(kuò)展至m/z285，作為過程氣體監(jiān)測用質(zhì)譜儀，成功實(shí)現(xiàn)了超越其他公司的高靈敏度測量。
它采用節(jié)省空間的設(shè)計(jì)，包括配備電子電離源和二次電子倍增器的小型四極傳感器以及泵。
日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 規(guī)格參數(shù)
替代使用氦 (He) 載體的分析儀，例如氣相色譜儀
FT-IR 分析儀的替代品
用于連續(xù)分析廢氣以回收二氧化碳 (CO 2 )
測量廢氣中氫氣（H 2 ）和其他氣體的濃度
半導(dǎo)體設(shè)備的氣體測量
CVD 清洗終點(diǎn)
蝕刻端點(diǎn)
薄膜沉積工藝條件測量
用于干泵維護(hù)和安全保證的氣體測量
發(fā)酵過程中產(chǎn)生的氣體（乙醇等）的監(jiān)測和測量
NMP監(jiān)測測量
冷凍干燥過程中的殘余水分管理測量
廢氣管理測量
檢測各種氣體泄漏的測量
1.首先
化學(xué)氣相沉積（CVD）廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造工藝中。它包括許多形成氧化膜和金屬膜的步驟。
在 CVD 中，固體沉積物在腔室內(nèi)壁上的積累以及由此產(chǎn)生的顆粒對(duì)工藝產(chǎn)生重大影響。
因此，根據(jù)成膜頻率需要進(jìn)行腔室清潔。
通常，腔室清潔是通過考慮終點(diǎn)的經(jīng)過時(shí)間來控制的。
2.測試方法
1. 用不銹鋼管將閥門和 ASTON Impact 連接到 CVD 設(shè)備。
2. 開始清潔過程并開始測量 ASTON Impact。
3. 監(jiān)測反應(yīng)產(chǎn)物和清潔氣體的趨勢(shì)。
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