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原裝HORIBA堀場等離子發(fā)射監(jiān)測器EV2.0 STD
在半導(dǎo)體制造工藝中，等離子體技術(shù)被廣泛應(yīng)用于各種制造工藝中，包括薄膜沉積和蝕刻。
該等離子體發(fā)射監(jiān)測儀可用于廣泛的應(yīng)用，從各種等離子體室的研發(fā)到生產(chǎn)線，例如工藝終點檢測、狀態(tài)管理和等離子體診斷。

詳細(xì)介紹

原裝HORIBA堀場等離子發(fā)射監(jiān)測器EV2.0 STD

您可以根據(jù)您的應(yīng)用從高分辨率、寬范圍和緊湊型這三種新開發(fā)的型號中選擇最佳規(guī)格。此外，借助專用分析軟件，我們可以滿足廣泛的需求，例如從微小的等離子體信號變化中檢測精確的終點以及監(jiān)測等離子體過程中的異常情況。

從 3 種型號中選擇適合您的應(yīng)用的型號

可直接連接至處理室窗口

先進(jìn)的專用軟件支持從研發(fā)到批量生產(chǎn)的廣泛應(yīng)用。

使用一臺 PC 可同時測量多達(dá) 6 個腔室（6 個等離子體發(fā)射監(jiān)測器）

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