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日本HORIBA堀場(chǎng)等離子發(fā)射監(jiān)測(cè)器EV2.0 HR
日本HORIBA堀場(chǎng)等離子發(fā)射監(jiān)測(cè)器EV2.0 HR

地:日本

貨物所在地:北京北京市

更新時(shí)間:2025/1/17 11:46:10

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日本HORIBA堀場(chǎng)等離子發(fā)射監(jiān)測(cè)器EV2.0 HR
在半導(dǎo)體制造工藝中,等離子體技術(shù)被廣泛應(yīng)用于各種制造工藝中,包括薄膜沉積和蝕刻。
該等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)儀可用于廣泛的應(yīng)用,從各種等離子體室的研發(fā)到生產(chǎn)線,例如工藝終點(diǎn)檢測(cè)、狀態(tài)管理和等離子體診斷。


詳細(xì)介紹

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您可以根據(jù)您的應(yīng)用從高分辨率、寬范圍和緊湊型這三種新開(kāi)發(fā)的型號(hào)中選擇最佳規(guī)格。此外,借助專用分析軟件,我們可以滿足廣泛的需求,例如從微小的等離子體信號(hào)變化中檢測(cè)精確的終點(diǎn)以及監(jiān)測(cè)等離子體過(guò)程中的異常情況。

從 3 種型號(hào)中選擇適合您的應(yīng)用的型號(hào)

可直接連接至處理室窗口

先進(jìn)的專用軟件支持從研發(fā)到批量生產(chǎn)的廣泛應(yīng)用。

使用一臺(tái) PC 可同時(shí)測(cè)量多達(dá) 6 個(gè)腔室(6 個(gè)等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)器)


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