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供應(yīng)簡介

進口HORIBA堀場等離子發(fā)射控制器RU-1000
使用反應(yīng)濺射將觸摸面板和玻璃基板的薄膜沉積在基材上。反應(yīng)性濺射是在真空中使濺射粒子與氧或氮發(fā)生化學(xué)反應(yīng)來成膜的方法，但定量供給反應(yīng)氣體的方法會減慢成膜速度，難以實用化。然而，已知存在一種不穩(wěn)定的過渡模式，其中沉積速率在沉積速率快??的反應(yīng)模式和金屬模式之間變化很大，并且可以通過基于等離子體控制反應(yīng)氣體來維持過渡區(qū)域排放強度。

詳細(xì)介紹

進口HORIBA堀場等離子發(fā)射控制器RU-1000

等離子發(fā)射控制器RU-1000使用傳感器檢測等離子發(fā)射強度，并使用算法向內(nèi)部制造的高速響應(yīng)質(zhì)量流量控制器指示適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體流量，從而使成膜速度接近于金屬模式并實現(xiàn)穩(wěn)定的成膜。

等離子發(fā)射控制器RU-1000用于提高沉積速度。通過控制過渡區(qū)的反應(yīng)氣體，與定量供給反應(yīng)氣體的方法相比，成膜速度可以提高數(shù)倍。

通過將多個等離子體發(fā)射強度傳感器安裝到寬幅基板上并利用這些信號高速控制反應(yīng)氣體，可以實現(xiàn)極其均勻的成膜。

等離子發(fā)射控制器RU-1000是一款售后服務(wù)優(yōu)良的國產(chǎn)產(chǎn)品，由專門從事光學(xué)技術(shù)的Horiba和擁有優(yōu)秀氣體控制技術(shù)的Horiba Estec生產(chǎn)。

制造商特點

在生產(chǎn)等離子體發(fā)射控制器時，HORIBA, Ltd.負(fù)責(zé)測量等離子體發(fā)射強度的基本光學(xué)設(shè)計，HORIBA STEC, Ltd.負(fù)責(zé)控制反應(yīng)氣體流量的功能部分的設(shè)計。高速。堀場制作所是汽車尾氣分析儀、薄膜測量、理化分析領(lǐng)域的頂尖公司，而這些分析技術(shù)的基本原理是光學(xué)測量技術(shù)，因此等離子體發(fā)光測量是由日本堀場制作所進行的。該領(lǐng)域的頂尖公司。另一方面，反應(yīng)氣體流量的控制部分由全球半導(dǎo)體制造設(shè)備中質(zhì)量流量控制器（氣體流量控制裝置）的制造商負(fù)責(zé)。等離子發(fā)射控制器 RU-1000 匯集了堀場集團的最佳技術(shù)，迎接將技術(shù)推向更高高度的挑戰(zhàn)。

對于要求演示的客戶

在本公司，我們出租控制器和等離子測量裝置等系統(tǒng)，以便與客戶的系統(tǒng)相匹配，讓客戶放心使用。

對于給您帶來的不便，我們深表歉意，但請單擊下面的圖標(biāo)并輸入所需的信息。

我們的代表將確認(rèn)您所需的日期和所需的系統(tǒng)。

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