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輝光放電質譜
ELEMENT GD集中了輝光放電和高分辨質譜的優(yōu)勢，在以下方面有杰出表現：
·樣品測試通量高：ELEMENT GD離子源和樣品夾的設計使可縮短換樣和分析時間，顯著提高生產率；
·檢測器線性范圍寬：檢測器線性范圍達12個數量級，可一次掃描同時檢測基體和痕量元素組成；
·具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質譜干擾的同位素。
GD-MS 技術可用于分析導體和非導體材料，其方法的穩(wěn)健性確保了不同樣品分析時具備相同程度的靈敏度和數據質量。借 助于專門的制樣和分析流程，可輕松完成低熔點金屬（例如鎵）的測試。上述優(yōu)勢使得 GD-MS 成為可靠的金屬標分析標準。
Element GD Plus GD-MS 廣泛服務于高純材料制造商及其工業(yè)客戶，諸如：
航空航天 - 鎳超合金、涂層和擴散層深度剖面
微電子 - 銅、氧化鋁粉末、濺射靶材
可再生能源 - 硅塊、晶圓、太陽能電池
醫(yī)療 / 制藥 / 食品 - 不銹鋼、合金
核工業(yè) - 鈾、核燃料
輝光放電質譜
杰出的分析速度、靈敏度和準確度
Element GD Plus GD-MS 作為當今前沿的分析技術，為固體樣品分析 提供了高通量測試所需的分析速度、靈敏度以及準確度。 專門設計的樣品夾，旨在確保操作簡單、換樣快速，適用于常規(guī)操作和 高通量測試。
高通量常規(guī)分析 Element GD Plus GD-MS
離子源及樣品夾非設計十分便于 更換樣品，利于常規(guī)操作和高通量測試。
制樣簡單
巧妙而簡單的輝光放電離子源設計縮短了換樣時間。
樣品本身置于真空室之中，消除樣品和 GD 放電池之間 泄露風險。
樣品可以快速便捷地從離子源移除、取下、換樣、重新裝回離子源，之后可進行下一次測量。離子源室的開啟和關閉可全自動完成。
