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日本SEN日森真空清洗設(shè)備PL1-1107A

日本SEN日森真空清洗設(shè)備PL1-1107A

技術(shù)參數(shù)真空度：可達(dá)到 0~0.001Torr，能有效營(yíng)造真空環(huán)境，為清洗過(guò)程提供穩(wěn)定的基礎(chǔ)條件，確保清洗效果。

紫外光波長(zhǎng)：可同時(shí)發(fā)射 185nm 和 254nm 的紫外光，利用這兩種波長(zhǎng)紫外光的特性進(jìn)行光分解和光敏氧化反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)高效清洗和表面處理。

照射尺寸：照射尺寸為 300×400mm，可滿足一定尺寸的工件清洗需求，能夠用作生產(chǎn)機(jī)器，適用于批量生產(chǎn)中的表面處理。

工作原理：與其他 SEN 日森的 UV 清洗設(shè)備類似，該設(shè)備利用 185nm 波長(zhǎng)紫外光將空氣中的氧氣分解成臭氧，254nm 波長(zhǎng)的紫外光將臭氧分解成氧氣和活性氧?；钚匝蹙哂袕?qiáng)烈的氧化作用，與工件表面的有機(jī)物污染物發(fā)生氧化反應(yīng)，使其分解成揮發(fā)性氣體逸出，從而達(dá)到清洗和表面處理的目的。

應(yīng)用場(chǎng)景光學(xué)領(lǐng)域：可用于透鏡和棱鏡的清潔和表面改性，去除表面的油污、灰塵、指紋等污染物，提高光學(xué)元件的透光率和成像質(zhì)量，改善表面的光學(xué)性能。

電子行業(yè)：對(duì)各種基板材料進(jìn)行預(yù)處理，如半導(dǎo)體硅片、印制電路板等，去除表面的有機(jī)物雜質(zhì)，提高基板表面的清潔度和潤(rùn)濕性，有利于后續(xù)的光刻、鍍膜、焊接等工藝的進(jìn)行，提高產(chǎn)品的良品率和可靠性。

材料處理：能對(duì)金屬和玻璃等材料進(jìn)行表面處理，改善表面潤(rùn)濕性，提高材料對(duì)粘合劑、油漆和涂料的附著力，增強(qiáng)材料的表面性能和使用壽命。