Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 易使用產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設備易使用產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 測量精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...

Otsuka大塚彩色濾光片測量裝置 產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置 測量精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置精度高產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置高精度產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的裝...

Otsuka大塚彩色光刻膠測量裝置 產(chǎn)品信息 特點 以透過光譜測量、色測量為代表，通過濃度測量、膜厚測量、反射光譜測量等，可對應彩色濾光片制造工程中的所有檢查的...

Otsuka大塚 ZETA電位·粒徑·分子量測試系統(tǒng)ELSZ series的高級機型，除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進行zeta電位（Zeta ...

Otsuka大塚ZETA電位·粒徑·分子量測試系統(tǒng)ELSZ series的高級機型，除了在稀薄溶液~濃厚溶液中進行zeta電位（Zeta P...

Otsuka大塚液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安全...

Otsuka大塚 液晶層間隙量測設備產(chǎn)品信息 特 點 采用了偏光光學系和多通道分光檢出器 有可對應各種尺寸的裝置，從1mm大小的光學素子到第10代的大型基板 安...

Otsuka大塚分光干涉式晶圓膜厚儀易使用即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀 體積小即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非破壞性光...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀高度檢測即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...

Otsuka大塚 分光干涉式晶圓膜厚儀安裝簡易即時檢測 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于減薄制程中的厚度變化 (強酸環(huán)境中) 產(chǎn)品特色 非接觸式、非...