膜厚儀測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學原理
閱讀:1399 發(fā)布時間:2022-6-26
膜厚儀具有無損,可靠,高生產力,高靈活性等優(yōu)點,可用來定性分析樣品的元素組成,也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測量,廣泛應用于電路板、半導體、電鍍、五金產品、汽車零部件、衛(wèi)浴潔具、珠寶等工業(yè)中的功能性鍍層電鍍槽液中的成分濃度分析。
膜厚儀測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200根據(jù)反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。
膜厚儀的技術功能:
微電腦控制系統(tǒng),大液晶顯示、PLC操作面板,方便用戶進行試驗操作和數(shù)據(jù)查看。
嚴格按照標準設計的接觸面積和測量壓力,同時支持各種非標定制。
測試過程中測量頭自動升降,有效避免了人為因素造成的系統(tǒng)誤差。
支持自動和手動兩種測量模式,方便用戶自由選擇。
系統(tǒng)自動進樣,進樣步距、測量點數(shù)和進樣速度等相關參數(shù)均可由用戶自行設定。
實時顯示測量結果的較小值、平均值以及標準偏差等分析數(shù)據(jù),方便用戶進行判斷。
配置標準量塊用于系統(tǒng)標定,保證測試的精度和數(shù)據(jù)一致性。
系統(tǒng)支持數(shù)據(jù)實時顯示、自動統(tǒng)計、打印等許多實用功能,方便快捷地獲取測試結果。
標準的USB接口,便于系統(tǒng)與電腦的外部連接和數(shù)據(jù)。