WH81涂層測厚儀校準方法

WH81涂層測厚儀校準方法

WH81涂層測厚儀校準方法。為使測量準確，應在測量場所對儀器進行校準。
1 校準標準片(包括箔和基體)
已知厚度的箔或已知覆蓋層厚度的試樣均可作為校準標準片。簡稱標準片。
a) 校準箔
對于磁性方法， “箔”是指非磁性金屬或非金屬的箔或墊片。對于渦流方法，通常采用塑料箔。 “箔”有利于曲面上的校準，而且比用有覆蓋層的標準片更合適。
b) 有覆蓋層的標準片
采用已知厚度的、均勻的、并與基體牢固結(jié)合的覆蓋層作為標準片。對于磁性方法，覆蓋層是非磁性的。對于渦流方法，覆蓋層是非導電的。
2 基體
a)對于磁性方法，標準片基體金屬的磁性和表面粗糙度，應當與待測試件基體金屬的磁性和表面粗糙度相似。對于渦流方法，標準片基體金屬的電性質(zhì)，應當與待測試件基體金屬的電性質(zhì)相似。為了證實標準片的適用性，可用標準片的基體金屬與待測試件基體金屬上所測得的讀數(shù)進行比較。
b) 如果待測試件的金屬基體厚度沒有超過表一中所規(guī)定的臨界厚度，可采用下面兩種方法進行校準：
1) 在與待測試件的金屬基體厚度相同的金屬標準片上校準;
2) 用一足夠厚度的，電學性質(zhì)相似的金屬襯墊金屬標準片或試件，但必須使基體金屬與襯墊金屬之間無間隙。對兩面有覆蓋層的試件，不能采用襯墊法。
c) 如果待測覆蓋層的曲率已達到不能在平面上校準，則有覆蓋層的標準片的曲率或置于校準箔下的基體金屬的曲率，應與試樣的曲率相同。
3 校準方法
本儀器有三種測量中使用校準方法: 零點校準、二點校準，還有一種針對測量頭的六點修正校準。本儀器的校準方法是非常簡單的。
3.1 零點校準
a) 在基體上進行一次測量，屏幕顯示<×.×µm>。
b) 按 ZERO 鍵，屏顯<0.0>。校準已完成，可以開始測量了。
c) 重復上述 a、b 步驟可獲得更為的零點，高測量精度。零點校準完成后就可進行測量了。注：本儀器提供負數(shù)顯示，為用戶更方便的選擇零點。
3.2 二點校準
這一校準法適用于高精度測量及小工件、淬火鋼、合金鋼。
a) 先校零點(如上述)。
b) 在厚度大致等于預計的待測覆蓋層厚度的標準片上進行一次測量，屏幕顯示<×××µm>。
c) 用▲、▲、鍵修正讀數(shù)，使其達到標準值。校準已完成，可以開始測量。
注：在儀器校準時，單次按將跳動一個數(shù)，長按不松開，將連續(xù)跳動要修正的值。
4 六點修正校準
在下述情況下，改變基本校準是有必要的:
測量頭頂端被磨損、新?lián)Q的測量頭、特殊的用途。
在測量中，如果誤差明顯地超出給定范圍，則應對測量頭的特性重新進行校準稱為基本校準。通過輸入 6 個校準值(1 個零和 5 個厚度值)，可重新校準測量頭，具體操作方法如下：
a) 在儀器開啟的狀態(tài)下，按順序連續(xù)、快速按下以下按鈕，即可進入六點修正校準;
b)先校零值。在六點修正校準界面的*個界面，測一下沒有任何涂層的基體，然后按 ZERO 鍵，屏幕中的 ADJ 顯示 0.0µm，按 進入下一點的校準;
c)校準儀器自帶校準片，把 50µm 的放到基體上，測一下 50µm 的厚度，測出來的(ADJ)數(shù)與校準片的值不符按? ?調(diào)整到與校準片的值一樣(如50µm 測出來是 54µm 按?調(diào)整到 50µm)， 然后按 進入下一點校準,接著用相同的校準方法依次校準 100μm、250μm、500μm、1000μm 校準膜片;
d)6 點數(shù)據(jù)調(diào)整完之后，會出現(xiàn)對話框詢問是否保存，按 確認保存;
e)若使用其他膜片標準，須按厚度增加的順序，一個厚度上可做多次。每個厚度應少是上一個厚度的 1.6 倍以上，理想情況是 2 倍。例如: 50、100、250、500、1000μm。 大值應該接近但低于測量頭的 大測量范圍;
注意: 每個厚度應少是上一個厚度的 1.6 倍以上，否則視為基本校準失敗，后面一個點必須大于 500μm