散射式近場光學顯微鏡的特點及實際應用

來源：八帆儀器設備（上海）有限公司 2021年04月25日 11:35

　　散射式近場光學顯微鏡建立在基于具有*地位的納米光學表征工具原子力顯微鏡AFM的基礎之上。s-SNOM設計具有非常優(yōu)秀的性能，高度集成，全面自動化，使用靈活，為研究生產(chǎn)力和易用性設定了新的標準。

　　特別適用于硬質(zhì)材料，特別是具有高反射率、高介電常數(shù)或強光學共振的材料，可以完成對所有物質(zhì)納米尺度的化學性質(zhì)分析及探索。

　　散射式近場光學顯微鏡的分辨率僅由AFM針尖的曲率半徑?jīng)Q定，與入射光源的波長無關，能夠在可見、紅外和太赫茲光譜范圍內(nèi)，提供佳10nm空間分辨率的光譜和近場光學圖像。

　　產(chǎn)品特點：

　　10nm空間分辨率近場成像和光譜；

　　特殊的快速成像和采譜技術，10倍于傳統(tǒng)的空間光譜成像；

　　特殊的背景壓制技術和高效光學信號收集技術，確保在10nm空間分辨率下仍然保持*的信噪比；

　　預先校準光路，操作極其簡便；

　　模塊化設計，可拓展性強；

　　散射式近場光學顯微鏡重要應用領域：

　　研究樣品化學組成；

　　低維體系表面激發(fā)（石墨烯/六方氮化硼等）；

　　極性晶體；

　　半導體納米器件：納米天線/納米線/納米顆粒；

　　超材料；

　　高分子/蛋白質(zhì)/生物材料。

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