真空磁場(chǎng)退火爐GC800-15的技術(shù)參數(shù)

真空磁場(chǎng)退火爐GC800-15的技術(shù)參數(shù)

高溫磁場(chǎng)退火爐是由升溫高溫爐，高溫爐加熱電源，Labview控制軟件，電磁鐵，高精度雙極性恒溫電源，分子泵組，水冷機(jī)組共同組成的一套反饋調(diào)節(jié)的加熱系統(tǒng)。

該高溫磁場(chǎng)加熱爐系統(tǒng)是由分子泵組中的機(jī)械泵（干泵）先對(duì)真空腔體（樣品腔）進(jìn)行粗抽，達(dá)到可以開(kāi)啟分子泵的極限真空時(shí)，在開(kāi)啟分子泵進(jìn)行高真空的抽取，達(dá)到客戶所需的真空度。打開(kāi)軟件，通過(guò)在軟件中輸入需要的磁場(chǎng)值和溫度值，通過(guò)閉循環(huán)反饋調(diào)節(jié)，使設(shè)備內(nèi)樣品的溫度自動(dòng)控制并穩(wěn)定在某一個(gè)溫度值，軟件可以按照用戶給定的實(shí)驗(yàn)條件完成實(shí)驗(yàn)。

主要技術(shù)指標(biāo)：

※ 真空室及主要零部件材質(zhì)均為304無(wú)磁不銹鋼；

※ 采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵組；真空測(cè)量為數(shù)顯全量程真空計(jì)；

※ 真空度及漏率：① 真空室極限真空度6′10^-5Pa(冷態(tài))；②漏率<10^-11Pa.L/s，真空度隨著溫度變化，會(huì)出現(xiàn)波動(dòng)，屬于正常情況；

※ 在室溫到900度，升溫速率優(yōu)于100K/min，高溫加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃；

※ 加熱時(shí)，加熱絲被封裝在石英管內(nèi)，極大程度的減少由于加熱絲的揮發(fā)造成樣品表面附著物的污染；

※ 匹配磁鐵電源：雙極性，穩(wěn)定度優(yōu)于50ppm/h，平滑過(guò)零無(wú)斷點(diǎn)；

※ 匹配電磁鐵：長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行穩(wěn)定度<±0.5Gs；

※ 冷卻方式：水冷。

樣品腔尺寸