光刻工藝：對(duì)準(zhǔn)與曝光技巧解析

光刻工藝：對(duì)準(zhǔn)與曝光技巧解析

在科技的海洋中，光刻工藝猶如一顆璀璨的明星，以其魅力吸引著眾多科技愛(ài)好者的目光。

光刻工藝，作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的核心步驟，對(duì)于芯片的性能和可靠性具有至關(guān)重要的影響。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，光刻工藝就是將預(yù)設(shè)的圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體材料上，為后續(xù)加工提供精確的模板。而在這個(gè)過(guò)程中，對(duì)準(zhǔn)與曝光則是至關(guān)重要的兩個(gè)環(huán)節(jié)。

光刻工藝流程圖

曝光方式分類：根據(jù)光源類型、曝光方式等，可分為多種類型。如掩膜對(duì)準(zhǔn)式曝光、步進(jìn)投影式曝光、激光直寫(xiě)、電子束直寫(xiě)等。

掩膜對(duì)準(zhǔn)式曝光：需要掩膜版，1:1關(guān)系，接觸式和接近式；

步進(jìn)投影式曝光：需要掩膜版，有投影系統(tǒng)，按一定比例將圖形曝光在光刻膠上；

激光直寫(xiě)：利用激光束掃描和DMD技術(shù)來(lái)獲得圖形，無(wú)需掩膜版；

電子束直寫(xiě)：電子束光源，曝光過(guò)程采用失量或者柵線掃描獲得圖形，無(wú)需掩膜版，通常分為高斯束和變形束。

非接觸接近式，無(wú)掩膜曝光系統(tǒng)

托托科技無(wú)掩膜光刻機(jī)經(jīng)由所選圖形產(chǎn)生二進(jìn)制信號(hào)，進(jìn)而控制微反射鏡的偏轉(zhuǎn)角度，使得光線的空間分布與待光刻圖形一致。經(jīng)反射鏡投影物鏡到內(nèi)，最終照射到光刻膠襯底。無(wú)掩膜版紫外光刻機(jī)與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比，節(jié)約了制版的時(shí)間和費(fèi)用，提高了圖形設(shè)計(jì)的自由度，更值得一提的是，托托科技特別為研究二維材料性能的客戶開(kāi)放了直接繪制電極的功能，即通過(guò)交互式綠光虛擬套刻技術(shù)，讓材料電極圖形繪制和對(duì)準(zhǔn)變得更加簡(jiǎn)單和精準(zhǔn)。

在光刻工藝中，對(duì)準(zhǔn)與曝光不僅是技術(shù)的體現(xiàn)，更是與科學(xué)的結(jié)合。通過(guò)精確的對(duì)準(zhǔn)和曝光技術(shù)，我們可以將預(yù)設(shè)的圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體材料上，為后續(xù)加工提供精確的模板。這種技術(shù)與科學(xué)的結(jié)合，不僅提高了半導(dǎo)體制造的效率和質(zhì)量，還為科研帶來(lái)了無(wú)盡的想象空間和探索樂(lè)趣。