產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗機|培養(yǎng)箱


化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>工作原理>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 310Fab

來源:北崎國際貿(mào)易(北京)有限公司   2025年03月17日 09:58  

TXRF 310Fab 系列

全內(nèi)反射 X 射線熒光光譜儀

分析痕量從輕元素 Na 到重元素 U 的污染物元素

采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線發(fā)生器和新設(shè)計的入射 X 射線單色器。

過渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測量方法8 原子/厘米2達到水平。 在封閉 X 射線管測量時間的 1/3 內(nèi)即可實現(xiàn)相同的精度,從而實現(xiàn)高通量。

詢價詢問有關(guān)產(chǎn)品的問題TXRF 310Fab 系統(tǒng),用于通過 TXRF 進行晶圓表面污染計量


描述 TXRF 310Fab

1 個靶標(biāo)、3 個光束系統(tǒng)

這是一種方法,它使用三種類型的光譜晶體來提取被測元素的最佳單色 X 射線束,并將其用于污染元素激發(fā)。 用于輕元素測量的 W-Mα 射線不會激發(fā) Si,因此可以分析 Na、Mg 和 Al。 從 Na~U 連續(xù)進行高精度自動分析。

通過去除衍射線將散線的影響降至很低

它使用抑制高階反射的光學(xué)系統(tǒng)和 X-Y-theta 驅(qū)動平臺,自動 X 射線入射方向選擇功能消除了基板上的衍射線,并以最小的散射射線干擾實現(xiàn)高 S/N 測量。 可以對整個晶圓表面進行準(zhǔn)確和高精度的痕量分析。

可以與異物檢查坐標(biāo)數(shù)據(jù)進行坐標(biāo)聯(lián)動。

異物檢查裝置的坐標(biāo)數(shù)據(jù)可以導(dǎo)入 TXRF 系統(tǒng),并且可以對顆粒存在點進行污染元素分析。 滴灌跟蹤搜索功能使用的算法,需要快速準(zhǔn)確的坐標(biāo)。

晶圓表面的高速污染物篩選 “Sweeping-TXRF function”

Sweeping-TXRF 方法可用于使用直接 TXRF 方法高速測量晶圓表面的內(nèi)部,并闡明污染元素的分布狀態(tài)。 整個晶圓表面的污染分析是在短時間內(nèi)完成的,而代表性坐標(biāo)測量(如平面中的 5 或 9 個點)無法捕獲。 300mm 晶圓整個表面的 5×1010 原子/厘米2 污染物檢測可在短短 50 分鐘內(nèi)完成。 除了污染物元素的分布外,還可以通過整合整個表面的測量值來計算晶圓表面的平均污染物濃度。

邊緣排除 0mm 無損和非接觸式污染測量 “ZEE-TXRF 功能”

我們已經(jīng)在晶圓邊緣附近實現(xiàn)了高靈敏度測量,這是迄今為止TXRF方法無法測量的。 現(xiàn)在可以使用 TXRF 在污染集中的邊緣進行污染分析。

晶圓背面的全自動測量 “BAC-TXRF 功能”

EFEM 中安裝了晶圓翻轉(zhuǎn)機器人,實現(xiàn)無人化和全自動的 300mm 晶圓背面污染測量。 當(dāng)與 ZEE-TXRF 功能結(jié)合使用時,可以對晶圓的每個部分進行全面的污染分析和評估。

兼容 300mm Fab

配備 Fab 的標(biāo)準(zhǔn) FOUP/SMIF 接口,兼容 300mm/200mm 晶圓。 此外,它還支持各種 AMHS,并通過支持主機和 SECS/GEM 協(xié)議來支持 CIM/FA。


TXRF 310Fab 規(guī)格

產(chǎn)品名稱TXRF 310 晶圓廠
技術(shù)全內(nèi)反射 X 射線熒光 (TXRF)
痕量元素表面污染的測定
科技三光束激發(fā)和自動光學(xué)對準(zhǔn)
主要組件旋轉(zhuǎn)與陰極 X 射線源,XYθ 樣品臺
選擇用于全面工廠自動化的 GEM-300 自動化軟件
控制 (PC)內(nèi)部 PC、MS Windows®作系統(tǒng)
本體尺寸1200 (寬) x 2050(高) x 2546 (深) 毫米
質(zhì)量1380 kg(主機)
權(quán)力三相 200 VAC 50/60 Hz,30 A



免責(zé)聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618