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安泰電壓放大器在納秒固體板條激光器光束凈化實驗中的應(yīng)用

來源:西安安泰電子科技有限公司   2025年04月15日 11:20  

  實驗名稱:高功率納秒固體板條激光器光束凈化實驗

  測試設(shè)備:電壓放大器、波前傳感器、傾斜鏡、變形鏡、激光器等。

  實驗過程:


混合式光束凈化系統(tǒng)原理示意圖


  圖1:混合式光束凈化系統(tǒng)原理示意圖

  混合式自適應(yīng)光束凈化系統(tǒng)實驗裝置圖如圖1所示,其主要由四部分組成:第一部分為高平均功率、高重復(fù)頻率的納秒板條激光器;第二部分為低階像差自動校正系統(tǒng),此系統(tǒng)中采用四片式的光學(xué)結(jié)構(gòu),是三片式校正系統(tǒng)的優(yōu)化結(jié)果。四片透鏡各自獨立的安裝于間隔調(diào)整系統(tǒng)中,間隔調(diào)整系統(tǒng)根據(jù)H-S測量的像差信息在波前處理器的控制下,自動調(diào)整透鏡的空氣間隔,以滿足大幅值低階像差校正以及光束尺寸匹配的要求;第三部分為AO校正系統(tǒng),此系統(tǒng)為有波前探測的AO系統(tǒng),主要由傾斜鏡(TTM)、變形鏡(DM)、電壓放大器、波前處理器以及波前傳感器組成。傾斜鏡用于校正光束的整體傾斜像差,能夠有效釋放DM驅(qū)動器的行程,并且保證出射光束的指向,實驗中采用的TTM行程為±3′。DM用于產(chǎn)生入射波前的共軛波前面型,經(jīng)其反射后出射光束的波前像差能夠得到良好的校正,混合式自適應(yīng)光束凈化系統(tǒng)中采用的DM為59單元連續(xù)面型的變形鏡,驅(qū)動器行程能夠達到±3μm。


混合式光束凈化系統(tǒng)工作流程圖


  圖2:混合式光束凈化系統(tǒng)工作流程圖

  混合式光束凈化系統(tǒng)的工作流程圖如圖2所示,首先,H-S1對板條激光器出射光束的初始像差信息進行測量,并反饋給波前處理器,波前處理器驅(qū)動低階像差自動校正系統(tǒng)工作,采用直接校正策略,將四片透鏡移動到滿足低階像差校正以及尺寸匹配的位置,對工作點處的大幅值低階像差成分進行初步校正。之后H-S2對經(jīng)過LOAC系統(tǒng)校正后的波前信息進行測量,并將殘余像差的斜率信息反饋給波前處理器,由波前處理器進行判斷。當殘余像差的波前PV值≥4μm時,驅(qū)動低階像差自動校正系統(tǒng)工作,并采用調(diào)整校正策略解決工作點處像差變動的問題;當殘余像差的波前PV值<4μm時,波前處理器將H-S2反饋的斜率信息,轉(zhuǎn)換為電壓信號,發(fā)送給電壓放大器,使其產(chǎn)生TTM與DM的工作電壓,最終驅(qū)動DM產(chǎn)生相應(yīng)的面型,從而實現(xiàn)殘余像差的精細校正。經(jīng)過上述兩步校正的凈化系統(tǒng)后,出射光束能夠達到近衍射極限的光束質(zhì)量。

  實驗結(jié)果:


經(jīng)低階像差校正的出射光束相關(guān)參數(shù)


  圖3:經(jīng)低階像差校正的出射光束相關(guān)參數(shù)。(a)光束波前信息(μm),PV=1.91μm,RMS=0.29μm;(b)遠場強度分布,β=2.86

  經(jīng)過LOAC系統(tǒng)進行低階像差校正后的波前信息與遠場強度分布信息可如圖3所示。其中(a)圖為僅經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后出射光束的波前信息,波前PV值從26.47μm減小到1.91μm,RMS值從6.12μm減小到0.29μm。校正后的遠場強度分布可由圖(b)所示,經(jīng)校正后光束質(zhì)量β因子能夠從18.42倍衍射極限提升到2.86倍衍射極限,光束質(zhì)量得到了顯著的提升。


經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后各項Legendre多項式的系數(shù)


  圖4:經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后各項Legendre多項式的系數(shù)

  圖4中給出了僅經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后出射光束各項Legendre多項式的系數(shù),其中表征離焦和像散像差的第4項和第6項系數(shù)明顯減小,經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后出射光束中的低階像差成分得到了有效的校正,且其殘余像差成分主要為高階像差。其中構(gòu)成球差項(11項、13項和15項)中的11項、13項系數(shù)較小,表明經(jīng)過優(yōu)化后,四片式的結(jié)構(gòu)能夠起到抑制自身球差的效果。而第15項、21項、28項系數(shù)的增加主要是由于波前成“M”形突變導(dǎo)致的。波前“M”形的變形,為固體板條激光器較為常見的波前畸變,殘余像差的面型與之前的實驗基本一致。


校正前后近場光斑強度分布。(a)校正前;(b)校正后


  圖5:校正前后近場光斑強度分布。(a)校正前;(b)校正后

  經(jīng)過上述對波前信息的分析,表明低階像差成分得到了有效的校正,因此還需對近場光斑形態(tài)的變動情況進行分析,測量結(jié)果如圖5所示。

  校正前入射光束的近場強度分布如圖(a)所示,其光束尺寸為7mm×35mm,光斑形態(tài)呈寬高比為1:5的長條形。經(jīng)過LOAC系統(tǒng)進行尺寸變換后的近場強度分布如圖(b)所示,其光束尺寸為42mm×44mm,光斑形態(tài)變換為寬高比近似1:1的正方形。經(jīng)其校正后,滿足了后續(xù)應(yīng)用中對光束尺寸匹配的要求。

  實驗結(jié)果表明,經(jīng)LOAC系統(tǒng)校正后,初始入射光束中的大幅值低階像差成分和光斑形態(tài)寬高比較小的問題得到了同時的解決。

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  圖:ATA-2081高壓放大器指標參數(shù)

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