內(nèi)外皆精密｜半導(dǎo)體行業(yè)氯硅烷分析應(yīng)用文集重磅發(fā)布

在半導(dǎo)體制造過程中，電子氣體的純度直接影響芯片的良率與器件性能。隨著先進制程節(jié)點的不斷推進，對氣體純度的要求也日益嚴(yán)格，雜質(zhì)控制需達(dá)到ppb（十億分之一）乃至ppt（萬億分之一）級別。其中，氯硅烷類化合物（如三氯氫硅、四氯化硅等）以及高純載氣（如He、H?、Ar、N?、Cl?、HCl等）作為關(guān)鍵工藝氣體，廣泛應(yīng)用于多晶硅、單晶硅及薄膜沉積等環(huán)節(jié)。

然而，氯硅烷在生產(chǎn)、儲存及使用過程中容易產(chǎn)生多種雜質(zhì)，如磷化氫、氧、氮、碳?xì)浠衔锏?，這些雜質(zhì)對最終材料的電學(xué)性能與穩(wěn)定性產(chǎn)生顯著影響。因此，建立一套穩(wěn)定、靈敏、準(zhǔn)確的分析方法，實現(xiàn)對氯硅烷及其工藝氣體中雜質(zhì)的高效檢測，已成為提升產(chǎn)品質(zhì)量與工藝控制水平的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

珀金埃爾默基于多年在半導(dǎo)體材料檢測領(lǐng)域的技術(shù)積累，結(jié)合先進的氣相色譜與質(zhì)譜平臺，開發(fā)出適用于多種氣體基質(zhì)的高靈敏度檢測方法，助力企業(yè)實現(xiàn)高純氣體與氯硅烷工藝的全面質(zhì)量控制。

高純氣體中的雜質(zhì)檢測

氯硅烷及相關(guān)工藝檢測應(yīng)用