紫外臭氧清洗機是利用紫外線(UV)照射產(chǎn)生臭氧(O?),對材料表面進行清潔、活化或去除有機物污染的設(shè)備,廣泛用于半導體、光學、實驗室等對表面潔凈度要求較高的領(lǐng)域。
參數(shù)直接決定清潔效果和適用范圍,核心指標如下:
紫外線波長:需同時包含 185nm(臭氧生成)和 254nm(有機物分解),部分機型可調(diào)節(jié)波長占比,適配不同污染類型。
紫外線強度:通常為 10-100mW/cm²,強度越高,臭氧生成速度越快,有機物分解效率越高。
處理時間:一般為 1-30 分鐘,短則用于輕度清潔,長則用于重度有機污染。
腔體容積:小型機5-50L,大型機100-500L,需根據(jù)待清潔工件尺寸選擇。
氣源要求:可通入空氣或純氧,通入純氧時臭氧濃度更高,清潔效率提升30%-50%。
紫外臭氧清洗機的操作規(guī)程:
使用前仔細檢查設(shè)備的外觀是否完好,各部位是否固定牢固。
確保設(shè)備處于關(guān)機狀態(tài),電源線插頭未插入插座。
操作人員應(yīng)佩戴防護眼鏡和手套等防護用品。
將被清洗物品放置于設(shè)備的清洗區(qū)域,按下開機鍵,選擇所需的清洗模式并設(shè)定時間。
清洗完畢后,手動關(guān)閉設(shè)備,調(diào)整清洗區(qū)域中的物品。
維護保養(yǎng):
每次使用完畢后,必須清洗設(shè)備表面和各部件以及紫外燈照射區(qū)域。
定期更換紫外燈以及清洗物料與過濾網(wǎng)。
新燈泡更換后,要關(guān)閉后上電檢測,確保燈泡是否更換成功。
定期對設(shè)備進行全面檢查和保養(yǎng),以確保設(shè)備的正常運行和清洗效果。
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