化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫(xiě)光刻機(jī)>UTA DLP投影技術(shù)的無(wú)掩膜光刻機(jī)
UTA DLP投影技術(shù)的無(wú)掩膜光刻機(jī)
- 公司名稱 上海旭量光學(xué)技術(shù)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) UTA
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/5/2 12:22:50
- 訪問(wèn)次數(shù) 447
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UTA產(chǎn)品簡(jiǎn)介
顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。
使用金相顯微鏡和LED光源DLP投影儀,將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。
圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。
因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜板。
技術(shù)參數(shù)
由于顯微鏡和DLP的結(jié)合,可以用很低的成本來(lái)構(gòu)建系統(tǒng);
易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案;
通過(guò)物鏡放大倍率圖案,可以進(jìn)行大范圍的批量曝光;
可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng));
分辨率在微米級(jí),最小刻度1um。
曝光范圍:可達(dá)2.5mm×1.5mm 最小100um×60um
應(yīng)用案例
薄膜FET和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成。
從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評(píng)估其特性。
研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。
光刻前的模擬(紅光)
白光刻蝕(可設(shè)置時(shí)間)
相關(guān)論文:
Damage-free LED lithography for atomically thin 2D material devices」