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UTA DLP投影技術(shù)的無(wú)掩膜光刻機(jī)

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上海旭量光學(xué)技術(shù)有限公司專研于光電產(chǎn)品系統(tǒng)集成。。堅(jiān)持在光電領(lǐng)域前沿的不斷探索,公司不僅為用戶引進(jìn)原廠生產(chǎn)的各類標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品,而且致力于根據(jù)用戶的新需求,探索提供完整的系統(tǒng)解決方案,包括研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、集成和二次開(kāi)發(fā)等,努力為客戶提供專業(yè)、優(yōu)質(zhì)的服務(wù)。

我們堅(jiān)持致力于高質(zhì)量科研產(chǎn)品的推廣工作,在飛秒激光器及飛秒微納加工,超快時(shí)間分辨光譜及成像等超快領(lǐng)域擁有專業(yè)、全套的解決設(shè)備及方案?,F(xiàn)設(shè)有北京,杭州、深圳三個(gè)分公司和售后服務(wù)中心。 主要科研產(chǎn)品:微納飛秒激光加工系統(tǒng)、激光加工過(guò)程監(jiān)測(cè)系統(tǒng);一體化飛秒激光器及納秒激光器、皮秒激光器、超連續(xù)白光光源;科研級(jí)深度制冷CCD、sCMOS、ICCD、EMCCD、


飛秒激光加工系統(tǒng)

UTA產(chǎn)品簡(jiǎn)介

顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

使用金相顯微鏡和LED光源DLP投影儀,將具有機(jī)微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。

圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。

因?yàn)榭梢栽谄胀ǖ氖覂?nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極,所以它比電子束光刻便宜且簡(jiǎn)單,不需要制造昂貴的電極圖案掩膜板。


技術(shù)參數(shù)

  •    由于顯微鏡和DLP的結(jié)合,可以用很低的成本來(lái)構(gòu)建系統(tǒng);
       易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案;
       通過(guò)物鏡放大倍率圖案,可以進(jìn)行大范圍的批量曝光;
       可以連接到您自己的顯微鏡上(選項(xiàng));
       分辨率在微米級(jí),最小刻度1um。
       曝光范圍:可達(dá)2.5mm×1.5mm    最小100um×60um


應(yīng)用案例

薄膜FET和霍爾效應(yīng)測(cè)量樣品的電極形成。

從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評(píng)估其特性。

研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。

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光刻前的模擬(紅光)

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白光刻蝕(可設(shè)置時(shí)間)


相關(guān)論文:

Damage-free LED lithography for atomically thin 2D material devices」


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