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SE 400adv 多角度激光橢偏儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 SE 400adv
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 9:31:20
  • 訪問次數(shù) 1043

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子

亞埃精度

多角度激光橢偏儀穩(wěn)定的氦氖激光器保證了0.1埃精度的超薄單層薄膜厚度測量。

擴(kuò)展激光橢偏儀的極限

多角度激光橢偏儀性能優(yōu)異的多角度手動角度計(jì)和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。

高速測量

我們的激光橢偏儀SE 400adv的高速測量速度使得用戶可以監(jiān)控單層薄膜的生長和終點(diǎn)檢測,或者做樣品均勻性的自動掃描。


激光橢偏儀SE 400adv可用于從可選擇的、應(yīng)用特定的入射角度表征單層薄膜和基片。自動準(zhǔn)直透鏡確保在大多數(shù)平坦反射表面的吸收或透明襯底上進(jìn)行準(zhǔn)確測量。多角度測量的集成支持(40°—90°,5°步進(jìn)),可用于確定層疊的厚度、折射率和消光系數(shù)。為了補(bǔ)償激光橢偏測量中厚度測量的模糊性,在厚度測量中也采用了多角度測量。

SENTECH激光橢偏儀SE 400adv,用于超薄單層薄膜的厚度測量。小型臺式儀器由橢偏儀光學(xué)部件、角度計(jì)、樣品臺、自動準(zhǔn)直透鏡、氦氖激光光源和檢測單元組成。我們的激光橢偏儀SE 400adv的選項(xiàng)支持在微電子、光伏、數(shù)據(jù)存儲、顯示技術(shù)、生命科學(xué)、金屬加工等領(lǐng)域的應(yīng)用。


Atomic layer deposited Al2O3 on silicon waferMulti-angle measurement for determining thickness of SiO2 / Si3N4 / Si (substrate)Manual goniometer with 5°-stepsSE 400adv with controllerX-y mapping stageLaser ellipsometer with microspot optionLaser ellipsometer SE 401adv for in-situ measurement in plasma process technologyLaser ellipsometer with liquid cell




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