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ACA 托托科技科研版無掩膜光刻機(jī)
- 公司名稱 托托科技(蘇州)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 ACA
- 產(chǎn)地 江蘇蘇州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/9/24 10:36:10
- 訪問次數(shù) 229
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
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光刻機(jī)又名掩膜對準(zhǔn)曝光機(jī),是芯片制造流程中光刻工藝的核心設(shè)備。其主要用途是生產(chǎn)集成電路,將設(shè)計(jì)好的集成電路模板復(fù)刻到硅晶圓上,從而生產(chǎn)出微小、精確、高效率的集成電路。
根據(jù)光刻機(jī)的曝光方式,主要可以分為接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和直寫式光刻機(jī),其中直寫式光刻機(jī)又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細(xì)分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機(jī)是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機(jī),它通過直接對晶圓進(jìn)行曝光,實(shí)現(xiàn)圖案的轉(zhuǎn)移,能夠更快速地制造特定產(chǎn)品、降低成本,除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外,還能實(shí)現(xiàn)2.5D光刻(即灰度光刻)。無掩膜光刻機(jī)不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點(diǎn),使其被廣泛應(yīng)用于科學(xué)研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學(xué)元件、微機(jī)械等領(lǐng)域。
托托科技科研版無掩膜光刻機(jī)-Academic
高靈活性、高精度、無掩膜的優(yōu)勢,非常適用于科學(xué)研究。
ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機(jī),其基于空間光調(diào)制技術(shù),實(shí)現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學(xué)研究選擇。設(shè)備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設(shè)備穩(wěn)定,上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準(zhǔn)。ACA系列設(shè)備為科研工作提供了強(qiáng)大的支持,助力科學(xué)研究領(lǐng)域的發(fā)展和創(chuàng)新。
托托科技科研版無掩膜光刻機(jī)-ACA無掩膜光刻機(jī)亮點(diǎn):
特征尺寸0.8μm
6英寸光刻面積
高精度步進(jìn)光刻
無掩膜光刻機(jī)