TTT-07-UV Litho-S 托托科技 無掩模光刻機

托托科技 無掩模光刻機，以其革命性的技術革新，為微電子、集成電路等制造領域帶來了靈活性和高效率。無論是在科學研究、定制化生產(chǎn)、快速原型制造，還是在電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等眾多領域，我們的無掩模光刻機都能提供解決方案。

激光直寫光刻技術與DMD無掩模光刻技術

激光直寫技術通過激光束直接在材料表面進行高精度加工，而DMD無掩模技術通過數(shù)字微鏡陣列投影光束進行圖案化加工，適用于大面積光刻。

DMD無掩模光刻技術路線介紹

基本原理：DMD技術利用數(shù)字微鏡裝置（Digital Micromirror Device）來控制微鏡的角度，從而通過投影系統(tǒng)在材料表面快速形成圖像或光刻圖案 。這些微鏡根據(jù)電信號的控制會精確調(diào)節(jié)反射角度，將激光或光源投射到特定位置。

系統(tǒng)組成：基于DMD的無掩模光刻系統(tǒng)通常由光源模組、勻光模組、DMD模組、投影模組、運動臺模組和軟件等幾大部分構(gòu)成，這些模組高效、精準的協(xié)同工作，實現(xiàn)了高分辨率圖案的快速無掩模光刻。

工作流程：上位機的發(fā)送圖形數(shù)據(jù)到DMD模組，DMD顯示對應的圖形，經(jīng)由DMD反射的光攜帶著圖形信息，并經(jīng)過一系列光學元件后照射到基片上，實現(xiàn)了圖形的轉(zhuǎn)移。高精度運動平臺的協(xié)同工作，確保不同曝光區(qū)域的精準拼接, 最終實現(xiàn)大型、復雜圖案的動態(tài)曝光。

核心功能

靈活設計無需掩模版

與傳統(tǒng)的有掩模光刻相比，無掩模光刻機更加靈活便捷，省去了制版的時間和金錢成本，幫助您快速驗證想法

加工精度可達400 nm

加工精度1 μm可以滿足大多數(shù)加工需求，針對精度要求更高的用戶，我們提供加工精度可達400 nm的產(chǎn)品供您選擇

速度高達1200 mm²/min

對于大尺寸樣品的加工來說，效率變得尤為重要，我們將為您供高速高精度的設備來滿足您的需求

加工幅面可達2 m²

如果您是有超大幅面加工需求的用戶，我們可提供加工幅面達2 m² 的產(chǎn)品來滿足您的需求

灰度光刻可達4096階

4096階的灰度能力，能夠精準地在光刻材料上構(gòu)建出具有高度復雜且細膩層次變化的微觀結(jié)構(gòu)或圖案，為微納制造領域帶來工藝精度與豐富的設計可能性

托托科技 無掩模光刻機特色功能：

直接繪圖：直接繪圖為您提供靈活便捷的手段，以此來快速驗證您的想法

精準套刻：由綠光作為指引光為您提供光刻前的對準預覽，以此來實現(xiàn)精準套刻

陣列光刻：陣列光刻為您提供快速確認工藝參數(shù)的手段，以此來幫您節(jié)約時間

主動對焦：主動對焦為您提供光刻前的實時對準，以此來確保每次光刻聚焦清晰