官方微信|手機(jī)版

產(chǎn)品展廳

產(chǎn)品求購(gòu)企業(yè)資訊會(huì)展

發(fā)布詢價(jià)單

化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>化學(xué)氣相沉積設(shè)備>CY-PECVD100-1200-Q CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

分享
舉報(bào) 評(píng)價(jià)

CY-PECVD100-1200-Q CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

參考價(jià) 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) CY-PECVD100-1200-Q
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/12/17 11:44:27
  • 訪問(wèn)次數(shù) 42

聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款*材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來(lái),在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國(guó)內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國(guó)內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問(wèn),他們時(shí)刻與國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國(guó)訪問(wèn),并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國(guó)家,并在國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*好評(píng)。

如果您正在被國(guó)貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國(guó)貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無(wú)人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問(wèn)題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠(chéng)信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機(jī),切斷機(jī),拋光機(jī)

簡(jiǎn)單介紹:

CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和工程領(lǐng)域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導(dǎo)體、光電子、能源、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有重要應(yīng)用

詳情介紹:

CVD氣相沉積系統(tǒng)是一種常用的薄膜制備技術(shù),通過(guò)在高溫下將氣體反應(yīng)物質(zhì)與基底表面反應(yīng),形成薄膜。


1. 反應(yīng)室溫度:通常在幾百到千度之間,具體取決于所需的反應(yīng)溫度和材料。


2. 反應(yīng)氣體:根據(jù)所需的薄膜材料和結(jié)構(gòu),可以使用不同的反應(yīng)氣體,如氨氣、氫氣、氧氣、二氧化硅等。


3. 壓力范圍:通常在幾百帕到幾千帕之間,具體取決于反應(yīng)物質(zhì)和反應(yīng)條件。


4. 反應(yīng)時(shí)間:根據(jù)所需的薄膜厚度和質(zhì)量,反應(yīng)時(shí)間可以從幾分鐘到幾小時(shí)不等。


5. 基底材料:CVD系統(tǒng)可以用于各種基底材料,如硅、玻璃、金屬等。


6. 應(yīng)用領(lǐng)域:CVD氣相沉積系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和工程領(lǐng)域,用于制備各種功能性薄膜,如金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳納米管等。它在半導(dǎo)體、光電子、能源、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有重要應(yīng)用。

CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-PECVD100-1200-Q

頻電源

信號(hào)頻率

13.56MHz±0.005%

功率輸出

0~300W

*大反射功率

100W

反射功率

<3W (*大功率時(shí))

功率穩(wěn)定性

±0.1%

管式爐

管子材質(zhì)

高純石英

管子外徑

100mm

爐膛長(zhǎng)度

440mm

加熱區(qū)長(zhǎng)度

200mm+200mm (雙溫區(qū))

連續(xù)工作溫度

≦1100℃

溫控精度

±1℃

溫控模式

30段程序控溫

顯示模式

LCD觸摸屏

密封方式

304 不銹鋼真空法蘭

供氣系統(tǒng)

通道數(shù)

6通道

測(cè)量單元

質(zhì)量流量計(jì)

測(cè)量范圍

A 通道: 0~200SCCM, 氣體為H2  

B 通道: 0~200SCCM,氣體為CH4

C 通道: 0~200SCCM,氣體為 C2H4

D通道: 0~500SCCM,氣體為 N2

E通道: 0~500SCCM,氣體為 NH3

F通道: 0~500SCCM, 氣體為 Ar

測(cè)量精度

±1.5%F.S

工作壓差

-0.15Mpa~0.15Mpa

接頭規(guī)格

1/4" 卡套接頭

氣體混合罐

1L

真空系統(tǒng)

機(jī)械泵

雙極旋片泵

抽速

1.1L/S   

真空測(cè)量

電阻規(guī)

極限真空

0.1Pa

抽氣接口

KF16

滑  軌

爐體可以滑動(dòng),實(shí)現(xiàn)快速降溫

供電電源

AC220V 50Hz




化工儀器網(wǎng)

采購(gòu)商登錄
記住賬號(hào)    找回密碼
沒(méi)有賬號(hào)?免費(fèi)注冊(cè)

提示

×

*您想獲取產(chǎn)品的資料:

以上可多選,勾選其他,可自行輸入要求

個(gè)人信息:

溫馨提示

該企業(yè)已關(guān)閉在線交流功能