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CY-MSV325-II-DCDC-SS 桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍
參考價(jià) | ¥ 80000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CY-MSV325-II-DCDC-SS
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/20 17:30:37
- 訪問次數(shù) 39
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,建材,電子,冶金 |
簡單介紹:
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種物理氣相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過磁場增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。也可以在材料表面沉積具有特殊功能的薄膜,如在金屬材料表面沉積一層陶瓷薄膜,提高其抗腐蝕性能;在生物醫(yī)用材料表面沉積生物相容性薄膜,提高材料在生物體內(nèi)的適應(yīng)性。
磁控濺射鍍膜儀產(chǎn)品特點(diǎn):
高效鍍膜:采用磁控濺射技術(shù),沉積速率高,薄膜均勻性好。
多功能應(yīng)用:支持多種靶材和基材,適用于不同材料的薄膜沉積。
智能控制:配備控制系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的工藝參數(shù)控制。
模塊化設(shè)計(jì):方便維護(hù)和升級,可根據(jù)需求定制各種功能模塊。
環(huán)境友好:低能耗設(shè)計(jì),減少對環(huán)境的影響。
磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
參數(shù)名稱 | 參數(shù)說明 | |
產(chǎn)品名稱 | 桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ254-I-DC-SS | |
真空腔 | 腔體材質(zhì) | 304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理 |
取放模式 | 前開門方式取放樣品和靶材 | |
觀察窗 | 直徑100mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染 | |
樣品臺 | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
旋轉(zhuǎn)速度 | 不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型(0-30RPM)可選 | |
加熱溫度 | RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可選 | |
磁控靶 | 靶槍類型 | 普通永磁靶,可調(diào)角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸,厚度≦3mm, | |
濺射功率 | 300W | |
濺射方式 | 直流濺射 | |
工作真空 | 0.3-3Pa | |
電源 | 直流電源 300W *2 | |
濺射氣體 | 高純氬氣,純度99.99% | |
真空測量 | 復(fù)合真空計(jì),電阻規(guī)+電離規(guī),測量范圍:105-10-5Pa | |
真空獲取 | 前級泵 | 抽速 1.1L/S |
分子泵 | 抽速 600L/S | |
膜厚測量 | 通常配CYKY膜厚測量儀 | |
也可選配進(jìn)口品牌,價(jià)格額外計(jì)算 | ||
外形尺寸 | 550mm*350mm*450mm | |
包裝尺寸 | 770×720*730mm | |
包裝重量 | 110 KG |