EVO系列 ZEISS蔡司 掃描電鏡SEM

技術(shù)參數(shù)：

性能特點(diǎn)：

蔡司EVO 10

EVO 10可選配背散射探測器和Element EDS系統(tǒng)，以非常實(shí)惠的價(jià)格帶您走進(jìn)掃描電子顯微鏡的世界。您如今在EVO上的投資可確保應(yīng)對未來需要更大空間和更多端口的應(yīng)用。

蔡司EVO 15

EVO 15在分析應(yīng)用領(lǐng)域表現(xiàn)十分出色。選擇更大的真空樣品倉，您可盡享多功能、多用途的顯微鏡中心或工業(yè)質(zhì)量保證實(shí)驗(yàn)室解決方案。

蔡司EVO 25

EVO 25是您的大型樣品解決方案。選配150 mm Z軸行程樣品臺，可進(jìn)一步擴(kuò)展其功能，即使在傾斜的情況下也可檢測重達(dá)5 kg的樣品。此外，大型真空倉將能夠容納多個分析探測器，以滿足嚴(yán)苛的顯微分析應(yīng)用需求。

• 輕松使用豐富功能

SmartSEM Touch，只需指尖輕觸便能輕松控制交互式工作流。操作簡單易上手，大大減少了培訓(xùn)的工作量及成本，即便是新手用戶也能在幾分鐘內(nèi)采集到出色的圖像。此外，該用戶界面還可為需要自動化工作流來完成可重復(fù)檢測任務(wù)的工業(yè)操作員提供幫助。

• 出色的圖像質(zhì)量

EVO在獲取無涂層和未改性樣品的優(yōu)良數(shù)據(jù)方面具備優(yōu)勢。EVO使含水與重度污染的樣品保留其原生狀態(tài)，從而保護(hù)數(shù)據(jù)質(zhì)量。此外，六硼化鑭電子槍還能增強(qiáng)分辨率、襯度和信噪比，這在面對具有挑戰(zhàn)性的成像與顯微分析時非常重要。

• EVO能與其他顯微鏡良好互聯(lián)

EVO可作為半自動化和多模式工作流的一部分，無縫銜接再定位感興趣區(qū)域，并且保障多種模式下收集數(shù)據(jù)的完整性。它可將光學(xué)與電子顯微鏡的數(shù)據(jù)相結(jié)合，進(jìn)行材料表征或部件檢驗(yàn)，也可將EVO與蔡司光學(xué)顯微鏡結(jié)合使用，進(jìn)行關(guān)聯(lián)顆粒度分析。

• 簡單直觀的界面讓操作更得心應(yīng)手

在實(shí)驗(yàn)室中，操作SEM對于電子顯微鏡專家而言肯定游刃有余。但SEM的操作對非專業(yè)用戶而言依然具有挑戰(zhàn)，比如學(xué)生、新手或質(zhì)量工程師等，他們往往也需要從SEM獲取數(shù)據(jù)。因此，EVO在設(shè)計(jì)時便考慮到了這一點(diǎn)，它可選的用戶界面能同時滿足非顯微鏡專家和有經(jīng)驗(yàn)的顯微鏡專家的操作需求

• 邁入檢測應(yīng)用新時代

使用六硼化鑭（LaB6）電子槍獲取更豐富的數(shù)據(jù)

相較傳統(tǒng)發(fā)針型鎢燈絲，六硼化鑭陰極的電子發(fā)射可以按您所需，保證圖像的每個細(xì)微之處都得到展示。您將從下面兩方面獲益：

在電子探針大?。ㄈ绶直媛剩┎蛔兊那闆r下，您可以獲得更高的探針電流，更輕松地進(jìn)行圖像導(dǎo)航和優(yōu)化。

在探針束流（信噪比）不變的情況下，束流直徑要小得多，可以提高圖像分辨率。

應(yīng)用范圍：

• 制造與裝配工業(yè)

質(zhì)量分析/質(zhì)量控制

失效分析/金相研究

清潔度檢驗(yàn)

符合ISO 16232和VDA 19第1第2部分標(biāo)準(zhǔn)的顆粒形態(tài)分析和化學(xué)分析

非金屬夾雜物分析

• 半導(dǎo)體和電子元件

電子元件、集成電路、MEMS器件和太陽能電池的可視化檢查

銅線表面和晶體結(jié)構(gòu)檢測

金屬腐蝕檢測

截面失效分析

焊腳檢測

電容器表面成像

• 鋼和其他金屬

金屬樣品和夾雜物的結(jié)構(gòu)、化學(xué)特性及其晶體結(jié)構(gòu)的成像和分析

相、顆粒度、焊接和失效分析

• 原材料

地質(zhì)樣品的形貌、礦物學(xué)和成分分析

金屬結(jié)構(gòu)、斷裂和非金屬夾雜物的成像與分析

微粉化和制粒過程中原料化學(xué)品和活性成分的形貌與成分分析

• 材料科學(xué)研究

研究應(yīng)用中表征導(dǎo)電和非導(dǎo)電材料樣品

生命科學(xué)

研究植物、動物和微生物

• 法醫(yī)學(xué)

槍擊殘留物（GSR）

涂料和玻璃分析

鈔和硬幣偽造

頭發(fā)和纖維對比

法醫(yī)毒理學(xué)