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K575X Peltier制冷型高真空濺射鍍膜儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 南京覃思科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) K575X
  • 產(chǎn)地 英國(guó)MITECH
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間 2017/7/17 11:21:47
  • 訪問(wèn)次數(shù) 839

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南京覃思科技有限公司是由原南京江南光學(xué)儀器廠*光電儀器專(zhuān)家出資設(shè)立的一家從事光學(xué)、電子儀器銷(xiāo)售與服務(wù)的專(zhuān)業(yè)公司。公司經(jīng)營(yíng)范圍主要為:光學(xué)儀器;光電測(cè)量?jī)x器;電子儀器;與儀器配套的計(jì)算機(jī)軟硬件的銷(xiāo)售、研發(fā)以及技術(shù)服務(wù)。公司具有多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn),擁有良好的客戶(hù)資源和技術(shù)能力,所銷(xiāo)售的儀器質(zhì)量和服務(wù)均為*,在用戶(hù)中口碑很好。
代理銷(xiāo)售的產(chǎn)品為:“美國(guó)OGP”三坐標(biāo)測(cè)量顯微鏡;“韓國(guó)MIRERO”掃描電子顯微鏡AIS2100(掃描電鏡SEM);Delong USA Inc低壓桌上型透射電鏡LVEM5(LVTEM超小型臺(tái)式透射電鏡);“美國(guó)熱電NORAN”X-RAY能譜儀;“英國(guó)EMITECH”電鏡制樣設(shè)備;“日本尼康(NIKON)”生物顯微鏡;“美國(guó)Maxwell”冷光儀(BL/CL法摩爾濃度儀、生物發(fā)光儀、化學(xué)發(fā)光檢測(cè)儀);“德國(guó)萊卡(LEICA)”金相顯微鏡、其它工業(yè)顯微鏡;“日本拓普康(TOPCON)”色彩輝度計(jì)BM-7等系列、分光輻射度計(jì)SR-3;“英國(guó)雷尼紹(RENISHAW)”激光干涉儀、球桿儀;國(guó)產(chǎn)“江南牌(JN)”各類(lèi)顯微鏡;“貴陽(yáng)新天”萬(wàn)工顯、投影儀、測(cè)長(zhǎng)儀;以及與儀器配套的顯微圖象處理分析軟件系統(tǒng)(含各種進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)CCD攝像頭)DT-2000等,本公司是韓國(guó)MIRERO株式會(huì)社*的掃描電子顯微鏡(掃描電鏡SEM)中國(guó)總代理,同時(shí)還是“英國(guó)EMITECH”電鏡制樣設(shè)備、韓國(guó)SurfaceTech界表面張力\接觸角測(cè)量?jī)x中國(guó)總代理以及Delong USA Inc桌上型低壓透射電鏡LVEM5中國(guó)大陸代理商。本公司還承接各種顯微鏡的數(shù)字化改造。技術(shù)、質(zhì)量、服務(wù)均為*,在用戶(hù)中口碑很好。
本公司一向堅(jiān)持以“誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)、誠(chéng)實(shí)服務(wù)”為立業(yè)宗旨,奉行“精研覃思、無(wú)微不至”的企業(yè)文化,公司將以更優(yōu)秀的科技產(chǎn)品及服務(wù)回報(bào)社會(huì),愿與社會(huì)各界竭誠(chéng)合作,共同發(fā)展。

掃描電子顯微鏡;掃描電鏡;透射電鏡;超小型臺(tái)式透射電鏡;桌上型透射電鏡;英國(guó)EMITECH;電鏡制樣設(shè)備;熱蒸鍍鍍膜儀;鍍碳儀;噴碳儀;噴金儀;臨界點(diǎn)干燥儀;冷凍干燥儀;離子濺射鍍膜儀;磁電靶濺射鍍膜;高真空鍍膜儀;韓國(guó)掃描電鏡;SEM;TEM;三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x;超高倍顯微診斷儀;冷光儀;生化發(fā)光檢測(cè)儀;生物顯微鏡;金相顯微鏡;體視顯微鏡;偏光顯微鏡;熱臺(tái);表面張力/接觸角測(cè)定儀;亮度色度計(jì);色彩輝度計(jì);CCD攝像頭;顯微圖像分析軟件;顯微鏡數(shù)字化改造;3D三次元測(cè)量?jī)x

K575X使用“渦輪”泵,前級(jí)為旋片式機(jī)械泵,整個(gè)抽真空過(guò)程為自動(dòng)控制。
真空度可調(diào)整,以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬,以及金靶等不同材料要求,定時(shí)器可設(shè)置成不同的濺射時(shí)間。
本系統(tǒng)裝配了磁控管靶,靶面直徑為54 mm,可快速更換靶材。
濺射頭用Peltier制冷,可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層(無(wú)需水冷卻)。
濺射時(shí)參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣電磁閥。
K575d(雙頭)其它與K575X相同,只是具有兩個(gè)濺射頭。在進(jìn)行特殊涂層的應(yīng)用時(shí),不需要打開(kāi)真空即可進(jìn)行兩層沉積濺鍍。
注:K575d技術(shù)規(guī)格與K575X相同,但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷,對(duì)于比較厚的沉積,通常用K575d(雙頭)單元,它需要用水冷卻。

特點(diǎn)

全自動(dòng)控制
Peltier冷卻濺射頭
精細(xì)鍍層(0.5nm Cr粒子)
可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)作為標(biāo)準(zhǔn)配置
薄膜沉積(典型為5nm)
直徑為165mm腔室
可選雙濺射頭
可接膜厚測(cè)控儀

優(yōu)點(diǎn)

可濺射易氧化金屬精細(xì)顆粒,如:鉻或銥
易操作
無(wú)需水冷卻
超高分辨率,可復(fù)制涂層
適應(yīng)各種樣品
重復(fù)膜厚沉積
樣品容易裝載和卸載
不需要打開(kāi)真空即可進(jìn)行順序涂層
沉積厚度可預(yù)設(shè)

技術(shù)規(guī)格

儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
安全鐘罩:聚碳酸酯
基座: 110 mm直徑x 115mm高
重量:42公斤
靶:54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材)
樣品臺(tái):60mm直徑,具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
真空范圍:ATM-1x10-5 mbar
操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar
濺射電流:0-150mA
沉積速率:0-20nm/分
濺射定時(shí): 0-4 分鐘
渦輪分子泵:60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar)
Services - Argon - Nominal 10 psi;
         Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)
真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
電源:230 伏 50Hz(包括泵zui大電流為6安培)
      115 伏 60Hz(包括泵zui大電流為12安培)



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