岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司

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  • Dymek岱美儀器量產(chǎn)型光刻機系統(tǒng) 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：HERCULES
    光刻機Track系統(tǒng)通過集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理的高度自動化功能，完善了EVG光刻機產(chǎn)品系列。HERCULES光刻機Track...
    型號： HERCULES 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    HERCULESEVG納米壓印光刻機
    2024/11/9 15:09:323844

  • Dymek岱美中國儀器自動掩模對準系統(tǒng) 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：IQ Aligner NT
    ?新型IQ Aligner NT具有高強度和高均勻度的曝光光學器件，新的晶圓處理硬件，可實現(xiàn)全局多點對準的200mm和300mm晶圓全覆蓋范圍以及優(yōu)化的工具軟件...
    型號： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    光刻機光刻掩膜掩模曝光
    2024/11/9 16:20:011748

  • EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng) 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：
    EVG6200 NT掩模對準光刻系統(tǒng) 特色：EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。
    型號： 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    自動掩模對準系統(tǒng)對準系統(tǒng)光刻機光刻機價格納米壓印機
    2024/11/9 13:13:263461

  • IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：
    IQ Aligner 自動掩模對準系統(tǒng) 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻，進行了處理和優(yōu)化，用于晶圓片的尺寸高達200毫米。
    型號： 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    自動掩模對準系統(tǒng)對準系統(tǒng)光刻機光刻機價格
    2024/11/9 12:34:332448

  • EVG單面/雙面掩模對準光刻機 參考價： 面議

    參考價： 面議 型號：EVG610
    EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610（單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓印）支持各種標準光刻工藝，如真空，硬，軟接觸和接近式曝光模式，可選擇背部對準...
    型號： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 對比
    EVG光刻機微流控EVG微流控芯片接觸式光刻機
    2024/11/9 12:10:299257
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