光學(xué)膜厚儀是一款臺式光學(xué)薄膜測厚儀,可測量薄膜厚度,測量薄膜吸收率,測量薄膜透過率,測量薄膜反射率,測量薄膜熒光,也可測量膜層厚度,測量薄膜光學(xué)常量折射率n和k。
這套光學(xué)薄膜測厚儀,光學(xué)膜厚儀基于白光反射光譜技術(shù)，膜層的表面和底面反射的光VIS/NIR光譜，也是干涉型號被嵌入的光譜儀收集分析，結(jié)合多次反射原理，給出膜層的厚度和光學(xué)常數(shù)（n，k).
光學(xué)薄膜厚度測量儀到貨即可使用，僅僅需要用戶準備一臺計算機提供USB接口即可，操作非常方便。

光學(xué)薄膜測厚儀,光學(xué)膜厚儀特點
易于安裝
軟件基于Windows系統(tǒng)，方便使用
**光學(xué)設(shè)計，良*系統(tǒng)表現(xiàn)
陣列光譜探測器保證快速測量
測量薄膜厚度和折射率高達5層
可測量反射，透射和吸收光譜
可用于實時在線的薄膜厚度和折射率測量
具有齊全的材料光譜舍數(shù)據(jù)庫
可升級到顯微分光光度計
適合不同襯底和不同薄膜厚度測量
寬帶光學(xué)薄膜測厚儀參數(shù)
波長范圍：250-1700nm
光點大?。?00um - 5mm
樣品大小：200x200mm 或200mm 直徑
襯底厚度： 高達50um
測量薄膜厚度范圍： 2nm -150um
測量時間：***小2ms
精度：0.5%
重復(fù)精度：<1A
光學(xué)薄膜測厚儀,光學(xué)膜厚儀應(yīng)用
半導(dǎo)體制造
液晶顯示屏測量
刑偵
生物膜測量
礦石地質(zhì)分析
制藥醫(yī)學(xué)分析
光學(xué)鍍膜測量
功能薄膜MEMS測量
太陽能電池薄膜測量