勻膠顯影機 型號：SC100-DE
　　SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設備（track）的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。 

　　不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設備相同設計和程序，使您的工藝更具有實際應用意義；同類產(chǎn)品中的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復性。 
主要性能指標： 
主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學腐蝕易清潔）  
旋涂程序：多可存100組程序，每組100步，每個步驟可到0.1秒  
轉(zhuǎn)動速度：0-10,000rpm（更高速可選）  
旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空載）  
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm  
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復性< 1rpm  
工藝時間設定： 0-3,000 sec/step，時間設置精度：0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圓晶）  
標準配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）