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| 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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金屬熱蒸鍍設(shè)備
熱蒸發(fā)是物理氣相沉積（PVD）中常用方法，也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機和無機薄膜，其中以電阻式加熱法最為常見的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點為它們可以提供一種簡單的薄膜沉積方法，以電流通過其容納材料的舟為方式，從而加熱材料。當沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時，材料將開始蒸發(fā)並沉積到基板上。
SYSKEY金屬熱蒸鍍設(shè)備的熱蒸發(fā)可以精準的控制蒸發(fā)速度，且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3％。
離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度，並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。
| 應用領(lǐng)域 | 腔體 |
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| 配置和優(yōu)點 | 選件 |
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