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提拉涂膜機 訂購指南

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產(chǎn)品名稱:恒溫型程控浸漬提拉鍍膜機漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 鍍膜機

產(chǎn)品型號:HAD-DC-100H
一. 產(chǎn)品應(yīng)用 
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜”,隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。 
二. 產(chǎn)品簡介 
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可提高實驗精度與實驗效率。 
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品。 
三. 產(chǎn)品特點 
1. 采用自主的的傳動裝置; 
2. 提拉機構(gòu)、程控系統(tǒng)來自中國臺灣及日本進(jìn)口,確保運行精度及穩(wěn)定性; 
3. 多參數(shù)全自動控制;提拉速度連續(xù)可調(diào); 
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便;恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫,。 
5. 運行時,各項參數(shù)實時顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程; 
6. 高、低速均運行平穩(wěn),鍍膜時液面無振動,使成膜更均勻; 
7. 整個鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行,可控溫,溫度均勻性好。 
8. 的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片; 
四. 參數(shù) 
1. 提拉速度范圍:1~5000 μm/s,小分辨率1μm/s; 
2. 適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm; 
3. 浸漬時間:1~1200 s,小分辨率1s; 
4. 鍍膜次數(shù):1~100次,少1次; 
5. 每次鍍膜間隔時間:1~3600 s,小分辨率1s; 
6. 恒溫溫度:RT+10~200℃,溫度分辨率0.1℃; 
7. 溫度波動度≤±0.2℃; 
8. 恒溫場內(nèi)尺寸:340×320×320 mm(W×D×H); 
9. 電源:220V/50Hz
產(chǎn)品名稱:恒溫型程控浸漬提拉鍍膜機漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 鍍膜機
貨  號:27575
產(chǎn)品型號:HAD-DC-100H
一. 產(chǎn)品應(yīng)用 
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為 “濕凝膠膜”,隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。 
二. 產(chǎn)品簡介 
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而,對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可提高實驗精度與實驗效率。 
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品。 
三. 產(chǎn)品特點 
1. 采用自主的的傳動裝置; 
2. 提拉機構(gòu)、程控系統(tǒng)來自中國臺灣及日本進(jìn)口,確保運行精度及穩(wěn)定性; 
3. 多參數(shù)全自動控制;提拉速度連續(xù)可調(diào); 
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便;恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫,。 
5. 運行時,各項參數(shù)實時顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程; 
6. 高、低速均運行平穩(wěn),鍍膜時液面無振動,使成膜更均勻; 
7. 整個鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行,可控溫,溫度均勻性好。 
8. 的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片; 
四. 參數(shù) 
1. 提拉速度范圍:1~5000 μm/s,小分辨率1μm/s; 
2. 適用基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm; 
3. 浸漬時間:1~1200 s,小分辨率1s; 
4. 鍍膜次數(shù):1~100次,少1次; 
5. 每次鍍膜間隔時間:1~3600 s,小分辨率1s; 
6. 恒溫溫度:RT+10~200℃,溫度分辨率0.1℃; 
7. 溫度波動度≤±0.2℃; 
8. 恒溫場內(nèi)尺寸:340×320×320 mm(W×D×H); 
9. 電源:220V/50Hz

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