2025 03-30

KLA Instruments太陽(yáng)能電池量測(cè)解決方案

太陽(yáng)能電池大多由單晶硅或多晶硅制成，將晶硅錠加工成太陽(yáng)能電池需要一系列制造工藝，包括晶圓切割、制絨、酸洗、擴(kuò)散、刻蝕、減反膜沉積、激光開槽、接觸印刷等。下圖為工藝流程中的測(cè)量節(jié)點(diǎn)。太陽(yáng)能電池工藝流程中...

2025 03-30

薄膜方塊電阻和厚度測(cè)量—KLA45年電阻測(cè)量技術(shù)創(chuàng)新的桌面型解決方案

在半導(dǎo)體芯片等器件工藝中，后道制程中的金屬連接是經(jīng)過(guò)金屬薄膜沉積，圖形化和蝕刻工藝，最后在器件元件之間得到導(dǎo)電連接。對(duì)于半導(dǎo)體、PCB、平板顯示器、太陽(yáng)能應(yīng)用和研發(fā)等不同行業(yè)，對(duì)各種金屬層（包括導(dǎo)電薄...

2025 03-30

新應(yīng)用—KLA納米壓痕儀對(duì)電池材料的測(cè)量

電池的應(yīng)用極為廣泛，其通常以電化學(xué)反應(yīng)池的形式為各類裝置供電。電池內(nèi)在失效和劣化對(duì)電池性能有重大影響，而其機(jī)制依賴于不同組成材料之間的電化學(xué)反應(yīng)和納米力學(xué)相互作用。下一代電池要求高能量密度和高充放電倍...

2025 03-29

基于KLA探針式輪廓儀的薄膜應(yīng)力測(cè)量

隨著器件尺寸不斷縮小，表面翹曲度可能引發(fā)一些問(wèn)題從而影響器件的正常功能。在半導(dǎo)體中，薄膜應(yīng)力對(duì)半導(dǎo)體能帶隙偏移、超導(dǎo)轉(zhuǎn)變溫度和磁各向異性等電子特性有直接影響。在器件制造過(guò)程中，監(jiān)控因薄膜沉積而產(chǎn)生的應(yīng)...

2025 03-28

IC載板制造商需要了解的光刻技術(shù)信息

圖像轉(zhuǎn)移，也稱為光刻技術(shù)（或簡(jiǎn)稱光刻），在PCB的電路圖形方面發(fā)揮關(guān)鍵作用。它能實(shí)現(xiàn)復(fù)雜和精確的連接，以支持在更小的區(qū)域?qū)崿F(xiàn)更多連接。隨著對(duì)更高密度的電路板和更小線寬間距的需求不斷增加，線路必須以高精...

2025 03-28

鈣鈦礦太陽(yáng)能電池超薄膜厚度測(cè)量應(yīng)用 — KLA表面輪廓儀

鈣鈦礦材料因其優(yōu)異的光電特性，近年來(lái)一直受到高度關(guān)注。相應(yīng)的鈣鈦礦太陽(yáng)能電池在柔性太陽(yáng)能電池領(lǐng)域和疊層太陽(yáng)能電池領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用前景。早在2009年，鉛基鈣鈦礦材料第一次被應(yīng)用到太陽(yáng)能電池中，其光電轉(zhuǎn)...

2025 03-28

TOPCon 太陽(yáng)能電池片的方阻測(cè)試— KLA R54 系列

在全球各國(guó)努力減少碳足跡與追尋可持續(xù)能源的大背景下，太陽(yáng)能行業(yè)經(jīng)歷了顯著增長(zhǎng)。在基于晶體硅(c-Si)的多種工藝路線中，隧穿鈍化接觸太陽(yáng)能電池(TOPCon)因其高光伏轉(zhuǎn)換效率(PCE)和高性價(jià)比而脫...

2019 02-13

等離子清洗機(jī)的應(yīng)用

可用在以下領(lǐng)域：農(nóng)業(yè)育種：（有相關(guān)的參考文獻(xiàn)）隨著低溫等離子技術(shù)的不斷成熟，近些年等離子體種子處理技術(shù)已開始應(yīng)用于農(nóng)業(yè)育種等方面，這在國(guó)內(nèi)外尚屬新的研究領(lǐng)域。該技術(shù)是通過(guò)利用等離子體沖刷種子表面，來(lái)增...