您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
|---|
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
上海金剛石拋光劑廠家的產(chǎn)品成分常見(jiàn)的是金剛石微粉，以共同的介質(zhì)助劑，融物理與化學(xué)于一體研發(fā)而成。粒度散布均勻，顆粒描摹呈球形八面體，故拋光作用好，不易發(fā)生劃痕，硬度也*。對(duì)軟硬資料都有杰出的研磨拋光作用，首要用于機(jī)械研磨、拋光硬質(zhì)合金、合金鋼、高碳鋼等高硬度資料以及金相和巖相試樣的精研等。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40，不同料的研磨拋光可選用不同粒度的上海金剛石拋光劑。W為微米u(yù)m。
上海金剛石拋光劑廠家常將產(chǎn)品用于半導(dǎo)體硅片拋光、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)基片、計(jì)算機(jī)頂頭拋光、精細(xì)陶瓷、天然晶體、硬質(zhì)合金、寶石拋光等。浙江理協(xié)的上海金剛石拋光劑采用納米金剛石拋光石英、光學(xué)玻璃等材料，其拋光粗糙度達(dá)1nm。納米金剛石的使用有很多優(yōu)點(diǎn)，由于超細(xì)、超硬，使得光學(xué)拋光中的難題迎刃而解。精密拋光是光學(xué)拋光中的難題，原工藝是把磨料重復(fù)使用，需幾十小時(shí)，效率很低。如今用了納米金剛石，拋光速度大大進(jìn)步。拋光僅需十幾小時(shí)或幾分鐘，效率進(jìn)步數(shù)十倍至數(shù)百倍。以下就是上海金剛石拋光劑的常見(jiàn)用法。從這些事例中不難看出，納米金剛石可以順應(yīng)與滿(mǎn)足超精加工的需求。
上海金剛石拋光劑廠家詳細(xì)介紹產(chǎn)品的使用注意事項(xiàng)：
[1]將水基納米金剛石用于硅片拋光。用海藻酸鈉、羧甲基纖維素鈉、活性劑以及去離子水配制拋光液。對(duì)超分散納米金剛石拋光硅片進(jìn)行了研討，并對(duì)干法拋光和拋光波濕法拋光進(jìn)行了比照。干法拋光液使硅片粗糙度Ra從107nrn降到4nm。運(yùn)用水基納米上海金剛石拋光劑濕法拋光，拋光效率更高，并且硅片的粗糙度更小，到達(dá)4nrn。
[2]一種水基納米上海金剛石拋光劑經(jīng)過(guò)去離子水中加入納米金剛石、改性劑、分散劑、超分散劑、pH調(diào)理劑、潤(rùn)濕劑、具有化學(xué)作用的添加劑經(jīng)過(guò)超聲攪拌將納米金剛石分散成20~100nm的小體，制成拋光液。用于各種光電子晶體、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)基片、光學(xué)元器件及銅銜接的半導(dǎo)體集成電路等的超精細(xì)拋光。用于硅片拋光，外表粗糙度達(dá)0.214nm。
[3]一種用于存儲(chǔ)器硬盤(pán)磁頭反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三個(gè)碳的烷羥礦物油、十五個(gè)碳的油性劑、金剛石單晶微粉、抗氧化防腐劑、非離子活性劑、消泡劑和抗靜電劑，將該拋光劑用于磁頭反面拋光。研磨后外表劃痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。
[4]納米拋光液及其制造法的創(chuàng)造。以輕質(zhì)白油為介質(zhì)，參加非離子活性劑、抗靜電劑、凈洗劑以及pH調(diào)理劑制備了波動(dòng)性較好的納米上海金剛石拋光劑。除了用于計(jì)算機(jī)磁頭之外，還可以用于光學(xué)器件和陶瓷等高精度研磨和拋光之用。
[5]對(duì)中等粒度納米上海金剛石拋光劑用于磁頭拋光工藝進(jìn)行了研討。納米金剛石顆粒越細(xì)，拋光粗糙度越小、但是二者并不構(gòu)成復(fù)雜的線性關(guān)系。拋光液的分散波動(dòng)性很大水平上影響了外表劃痕。拋光液的波動(dòng)分散是很重要的。制備一種水性納米上海金剛石拋光劑，經(jīng)過(guò)三乙醇胺調(diào)整pH值后，用來(lái)拋光氧化鋁工件，這種拋光液使得被加工工件外表更容易清洗。
上海金剛石拋光劑廠家分享產(chǎn)品的使用方法：
1、使用上海金剛石拋光劑前將拋光織物用清水濕透，防止摩擦發(fā)熱;
2、發(fā)動(dòng)拋光盤(pán)后將上海金剛石拋光劑輕搖后倒置噴出;
3、噴灑上海金剛石拋光劑時(shí)，應(yīng)以拋光盤(pán)中心為圓心沿半徑方向噴出，3-5秒即可。新織物噴灑時(shí)應(yīng)相應(yīng)延長(zhǎng)，以使織物有更好的磨拋;
4、拋光過(guò)程中不斷加適量的清水即可。注意：有單晶的和多晶的。