電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。電子束...
電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)可以廣...
激光鍍膜儀 參考價(jià)：面議
激光鍍膜儀系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于...
PLD脈沖激光濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
PLD脈沖激光濺射鍍膜儀系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜...
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：面議
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀 參考價(jià)：50000
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片...
PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備鍍膜儀 參考價(jià)：50000
PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備鍍膜儀主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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