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實驗室光束線裝置: SAXSpoint 5.0

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產(chǎn)品型號

品       牌Anton Paar/安東帕

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時間:2024-06-05 10:08:59瀏覽次數(shù):241次

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應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
SAXS
緊湊型實驗室 SAXS 系統(tǒng)
能夠隨時在 3.6 x 0.9 m 的占地面積上使用小角 X 射線散射研究納米材料(尺寸、形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)、比表面等),無需等待昂貴的同步加速器檔期。優(yōu)化您的射線時間并研究不穩(wěn)定的樣品,避免運輸隱患。
安東帕精確且可靠的解決方案為 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 納米結(jié)構(gòu)材料的日常研究提供了出色的分辨率和數(shù)據(jù)質(zhì)量。

SAXS

緊湊型實驗室 SAXS 系統(tǒng)

能夠隨時在 3.6 x 0.9 m 的占地面積上使用小角 X 射線散射研究納米材料(尺寸、形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)、比表面等),無需等待昂貴的同步加速器檔期。優(yōu)化您的射線時間并研究不穩(wěn)定的樣品,避免運輸隱患。
安東帕精確且可靠的解決方案為 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 納米結(jié)構(gòu)材料的日常研究提供了出色的分辨率和的數(shù)據(jù)質(zhì)量。強大的儀器系統(tǒng)使用了 X 射線以及無散射光束準直,并且配備了多種樣品臺以滿足多種不同應(yīng)用。 

SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 實驗室光束線裝置:
SAXSpoint 5.0

  • 緊湊型占地 3.6 m x 0.9 m

  • 研究納米材料(例如尺寸、形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)) 

  • 非破壞性測量技術(shù)

  • 直接在原生生物環(huán)境中測量樣品

  • 優(yōu)化同步加速器的測量

SAXSpoint 5.0 是采用同步加速器探測器技術(shù)的 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 實驗室光束線,可在緊湊型系統(tǒng)中實現(xiàn)更高分辨率。安東帕出色的 SAXS 系統(tǒng),可解析高達 620 nm 的納米結(jié)構(gòu)。SAXSpoint 5.0 能夠在室溫環(huán)境和非室溫環(huán)境條件下分析幾乎所有的材料,靈活性好。SAXSpoint 5.0 配備了許多附加的可選功能,適合可達微米范圍 (USAXS) 的潛在應(yīng)用。通過功能強大的軟件包,可以自動進行操作和數(shù)據(jù)分析,輕松實現(xiàn)材料特性的無損研究。


在極短測量時間內(nèi)提供出色的數(shù)據(jù)質(zhì)量

SAXSpoint 5.0 采用高亮度 X 射線束,該射線束擁有高光譜純度和無散射光束準直。配備強大的微焦斑光源或 MetalJet X 射線源和高性能光學(xué)元件,可在更短的曝光時間內(nèi)提供出色的測量結(jié)果。結(jié)合更新的混合光子計數(shù) (HPC) 探測器,可確保獲得高質(zhì)量的 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 結(jié)果,以實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)材料分析。通過這種出色的設(shè)置,可以實現(xiàn)更好的分辨率,并以同類產(chǎn)品中較緊湊的系統(tǒng)尺寸(3.6 x 0.9 m)解析高達 620 nm(USAXS 為不超過微米范圍)的結(jié)構(gòu)。


一次性獲得 SAXS 和 WAXS 數(shù)據(jù)

SAXSpoint 5.0 具有移動探測器 Slidemaster,可在非常寬的 q 范圍內(nèi)進行全自動 X 射線散射研究。一次性獲得 SAXS 和 WAXS 數(shù)據(jù),無需重新校準系統(tǒng)。只需移動探測器,即可為每次實驗選擇更好的 q 范圍,從高 SAXS 分辨率到寬 WAXS 范圍。 
SAXSpoint 5.0 為您的測量提供自動光束選擇和定位。由于集成了更新的 EIGER2 R 探測器,因此可以進行無窗口和無光束遮擋測量。


SAXS 分析有難度嗎?使用 SAXSpoint 5.0 不是為了

自動完成日常測量工作,加快測量速度,而是 SAXSpoint 5.0 實驗室系統(tǒng)的標準性能。SAXSpoint 5.0 配備了 Stagemater,可以自動校準所有 X 射線部件和樣品臺,識別安裝的樣品臺,并相應(yīng)地配置系統(tǒng)。這為您的測量設(shè)置提供更佳的可能結(jié)果。使用 低容量液體自動進樣器實現(xiàn)樣品通量自動化,最多可容納 192 個樣品,并配有溫控孔板隔室,用于在儲存期間冷卻和加熱樣品。


選擇樣品臺:同一系統(tǒng)適用于所有實驗條件

幾乎任何的納米結(jié)構(gòu)材料都可以使用安東帕的各種樣品臺進行分析。使用 TrueFocus 可以輕松、快速地在不同的樣品臺之間切換,確保自動校準所有組件。 

  • TCStage樣品臺裝置:在 -150 °C 到 600 °C 范圍內(nèi)進行控溫研究

  • 濕度樣品臺:在規(guī)定的相對濕度和溫度條件下進行分析

  • GISAXS/GIXD 樣品臺:納米結(jié)構(gòu)表面和薄膜研究

  • 加熱/冷卻多位樣品臺:利用溫控的多位臺進行自動研究 

  • Tensile 樣品臺:在規(guī)定的機械載荷下,分析納米結(jié)構(gòu)纖維

  • RheoSAXS 模塊:一次性進行完整的流變和納米結(jié)構(gòu)研究 


功能強大的控制和數(shù)據(jù)分析軟件

SAXS 數(shù)據(jù)分析很復(fù)雜。直觀的 SAXSdrive™ 和 SAXSanalysis™ 軟件解決方案是獲得結(jié)果的方法。支持自動執(zhí)行常規(guī)程序步驟,如測量設(shè)置和校準,以及綜合數(shù)據(jù)分析。設(shè)置連續(xù)測量,利用自動進樣、溫度掃描和時間相關(guān)研究,并使用可定制的模板來分析 1D 和 2D 數(shù)據(jù)集。測定回轉(zhuǎn)半徑 (RG)、粒徑、Porod 常數(shù)、比表面積、Kratky 曲線等參數(shù)是 SAXSanalysis™ 的標準功能。 


    技術(shù)規(guī)格

    X 射線源
    • Primux 100 micro 微焦斑 X 射線源(Cu、Mo;可根據(jù)需求提供其他靶材)

    • 可選的雙微焦斑 X 射線源(Cu、Mo;可根據(jù)需求提供其他靶材)

    • 高性能 Ga /In MetalJet 光源

    X 射線光學(xué)元件和準直系統(tǒng)
    • 定制的 ASTIX 光學(xué)元件(全真空)

    • 自動無散射光束準直(全真空)

    樣品臺和自動進樣器
    • TCStage 溫控臺(-150 °C 至 600 °C)

    • 具有加熱/冷卻選件(-150 °C 至 500 °C)的 GISAXS 樣品臺

    • 具有加熱/冷卻選件(-150 °C 至 350 °C)的拉伸樣品臺

    • 濕度樣品臺

    • 適用于多個樣品的溫控自動進樣器(-150 °C 至 350 °C)

    • RheoSAXS 模塊

    • 剪切臺

    • 適用于多達 192 個液體樣品的 ASX 自動進樣器

    根據(jù)需求提供的定制樣品臺

    特殊功能

    Slidemaster:移動探測器(X、Y、Z 方向平移)
    TrueFocus:自動自校準
    TrueSWAXS:連續(xù)和同時 SWAXS 研究
    Stagemaster:XYZ 臺,自動識別樣品臺
    可選高分辨率 WAXS 模塊
    可選高性能光學(xué)器件,提供 X 射線通量 >4 X 10 8 ph/s

    溫度范圍-150 °C 至 +600 °C
    溫度準確度0.1 °C
    氣氛真空、空氣、惰性氣體、濕度(根據(jù)需求也可以是反應(yīng)性氣體)
    樣品架
    • 液體用石英毛細管

    • 低噪音 SiN 樣品槽

    • 固體樣品槽

    • 粘稠及粉末樣品的粘性樣品槽

    • 樣品旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)樣品槽

    • 高壓樣品槽

    • 少量樣品的微量樣品槽

    • 用于自動測量的流動樣品槽和試管樣品槽

    • 多個樣品槽

    • 多毛細管架

    • UV-Vis 池

    • 滲透池

    根據(jù)需求提供定制樣品臺,請聯(lián)系我們

    探測器2D EIGER2 R 和 PILATUS3 R 系列探測器
    高分辨率 WAXS 模塊(EIGER2 R 系列)
    可達到的 q 范圍0.01 nm-1 to 49.3 nm-1 (主探測器)
    軟件
    • SAXSdrive™ 測量與采集軟件

    • SAXSanalysis™ 數(shù)據(jù)處理與分析軟件

    • PCG 高級數(shù)據(jù)解析軟件

    占地面積
    • 3.6 m x 0.9 m(微聚焦光源 Microsource,L x W)

    • 4.5 m x 0.9 m (液態(tài)金屬靶 MetalJet, L x W)



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